特許
J-GLOBAL ID：200903019376146047
計算機ホログラム、生成方法及び露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
, 下山 治
, 永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-341123
公開番号（公開出願番号）：特開2009-164297
出願日： 2007年12月28日
公開日（公表日）： 2009年07月23日
要約：
【課題】所望の形状及び偏光状態の光強度分布を形成することができる計算機ホログラムを提供する。【解決手段】計算機ホログラム100は、入射光の偏光状態を変化させる複数の異方性セルと、入射光の偏光状態を変化させない等方性セルと、を有し、前記入射光の第1の方向の直線偏光成分が前記所定面PSに第1の光強度分布LI1を形成し、前記入射光の前記第1の方向に直交する第2の方向の直線偏光成分が前記所定面に前記第1の光強度分布とは異なる第2の光強度分布LI2を形成し、前記第1の光強度分布と前記第2の光強度分布とが重なり合う領域MAにおいて、前記第1の方向の直線偏光成分の位相と前記第2の方向の直線偏光成分の位相とが等しくなるように、又は、πずれるように、前記複数の異方性セル及び前記複数の等方性セルの寸法及び配列が設定されていることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
入射光の波面に位相分布を与えて所定面に光強度分布を形成する計算機ホログラムであって、
入射光の偏光状態を変化させる異方性媒質を含む複数の異方性セルと、
入射光の偏光状態を変化させない等方性媒質を含む複数の等方性セルと、
を有し、
前記入射光の第1の方向の直線偏光成分が前記所定面に第1の光強度分布を形成し、
前記入射光の前記第1の方向に直交する第2の方向の直線偏光成分が前記所定面に前記第1の光強度分布とは異なる第2の光強度分布を形成し、
前記第1の光強度分布と前記第2の光強度分布とが重なり合う領域において、前記第1の方向の直線偏光成分の位相と前記第2の方向の直線偏光成分の位相とが等しくなるように、又は、πずれるように、前記複数の異方性セル及び前記複数の等方性セルの寸法及び配列が設定されていることを特徴とする計算機ホログラム。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, G03H 1/08
H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
, H01L21/30 516C
, H01L21/30 516D
, G03H1/08
2K008AA10
, 2K008CC01
, 2K008CC03
, 2K008FF27
, 2K008HH01
, 2K008HH25
, 5F046BA03
, 5F046CB01
, 5F046CB15
, 5F046CB23
