特許
J-GLOBAL ID：200903019392217329
プラズマ処理装置および処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人第一国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-020904
公開番号（公開出願番号）：特開2004-235349
出願日： 2003年01月29日
公開日（公表日）： 2004年08月19日
要約：
【課題】ウェットクリーニング後のシーズニングにおいて、シーズニングが十分であるか否かを判定できるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】処理室3と、プラズマ発光を採光する受光部11と、プラズマ発光を分光し多チャンネルの信号に変換する分光部13と、多チャンネルの信号をデータベース15に格納されたフィルタベクトルを用いて1つの信号に変換する信号変換部14と、信号変換された信号を用いて処理室内の状態を判断する処理部16とを有するプラズマ処理装置において、あるロットのプラズマ発光データを主成分解析して作成した主成分スコアと前のロットにおける主成分スコアとの差を取り、その差のロット内の平均値およびロット内の最大値と最小値の差ならびにロット内の標準偏差を求め、それらの値を予め設定された標準偏差と比較して処理室内の状態を判断する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被処理体にプラズマ処理を行なう処理室を有するプラズマ処理装置において、
前記処理室内のプラズマ発光をモニタリングする受光部と、
前記プラズマ発光を分光し多チャンネルの信号に変換する分光部と、
前記多チャンネルの信号を単数あるいは複数の出力1つの信号に変換し、その出力信号を対象に演算処理を行う演算処理部と、
フィルタベクトルを格納するデータベースと、
前記演算結果を用いて処理室内の状態を判断する判断部と、
前記判断部からの信号によって前記プラズマ処理装置の動作を制御する装置制御部とを有することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (5件)：
H01L21/3065
, B01J19/08
, C23C16/52
, H01L21/205
, H05H1/00
H01L21/302 101D
, B01J19/08 E
, C23C16/52
, H01L21/205
, H05H1/00 A
4G075AA24
, 4G075AA30
, 4G075AA61
, 4G075AA65
, 4G075BC04
, 4G075BC06
, 4G075CA26
, 4G075CA47
, 4G075DA02
, 4G075EB01
, 4K030CA04
, 4K030FA01
, 4K030KA39
, 4K030KA41
, 4K030LA15
, 5F004AA15
, 5F004CB02
, 5F004CB16
, 5F045EB06
, 5F045GB08
, 5F045GB16
, 5F045GB17
