化学増幅型レジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-198916
公開番号（公開出願番号）：特開2002-014471
出願日： 2000年06月30日
公開日（公表日）： 2002年01月18日
要約：

【要約】【課題】170nm以下の波長の光に対する透過率に優れ、特にF2エキシマレーザーリソグラフィに適したレジスト組成物を提供する。【解決手段】バインダー樹脂及び感放射線化合物を含有し、該バインダー樹脂が、それ自身アルカリ可溶性であるか又は放射線照射後の該感放射線化合物の作用により化学変化を起こしてアルカリ可溶性となるものであって、下式(I)(式中、R1は少なくとも1個のフッ素原子を有する炭素数1〜12のフルオロアルキルを表し、R2は水素又は炭素数2〜5のアシル基を表す)で示される重合単位を有する化学増幅型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

バインダー樹脂及び感放射線化合物を含有し、該バインダー樹脂が、それ自身アルカリ可溶性であるか又は放射線照射後の該感放射線化合物の作用により化学変化を起こしてアルカリ可溶性となるものであって、下式(I)(式中、R1は少なくとも1個のフッ素原子を有する炭素数1〜12のフルオロアルキルを表し、R2は水素又は炭素数2〜5のアシル基を表す)で示される重合単位を有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。

IPC (9件)：

G03F 7/039 601 , C08F 16/04 , C08F 18/02 , C08K 5/00 , C08L 29/02 , C08L 31/02 , G03F 7/004 503 , G03F 7/038 601 , H01L 21/027

FI (9件)：

G03F 7/039 601 , C08F 16/04 , C08F 18/02 , C08K 5/00 , C08L 29/02 , C08L 31/02 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/038 601 , H01L 21/30 502 R

Fターム (48件)：

2H025AB16 , 2H025AC03 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BF02 , 2H025BF09 , 2H025BF11 , 2H025BF15 , 2H025BG00 , 2H025CB43 , 2H025CB45 , 2H025CC17 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4J002BC121 , 4J002BE021 , 4J002BF021 , 4J002BG051 , 4J002EQ016 , 4J002EU186 , 4J002EV176 , 4J002EV196 , 4J002EV216 , 4J002EV246 , 4J002EV296 , 4J002EZ006 , 4J002GP03 , 4J100AB07Q , 4J100AB07R , 4J100AD02P , 4J100AD07P , 4J100AG04P , 4J100AG33P , 4J100AL03Q , 4J100AL08Q , 4J100BA03Q , 4J100BA03R , 4J100BA04Q , 4J100BA04R , 4J100BB07P , 4J100BC09Q , 4J100CA01 , 4J100CA03 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (9件)

高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-249269 出願人：信越化学工業株式会社
レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-176604 出願人：旭硝子株式会社
感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-134178 出願人：日本合成ゴム株式会社

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