特許
J-GLOBAL ID:200903019544715893

純水製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 重野 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-223094
公開番号(公開出願番号):特開2000-051845
出願日: 1998年08月06日
公開日(公表日): 2000年02月22日
要約:
【要約】【課題】 脱気装置、RO膜装置及びイオン交換脱塩装置を組み合わせて構成される純水製造装置により、原水中の揮発性有機物、シリカ、ホウ素等を効率的に除去し、低コストで高水質の純水を製造する。【解決手段】 脱気装置3、逆浸透膜装置4及びイオン交換脱塩装置5を組み合せて構成される純水製造装置の各装置3,4,5に35〜80°Cの原水を通水する純水製造方法。
請求項(抜粋):
脱ガス装置、逆浸透膜装置及びイオン交換脱塩装置を組み合せて構成される純水製造手段に原水を通水して純水を製造する方法において、各装置に通水される原水の温度を35〜80°Cとすることを特徴とする純水製造方法。
IPC (8件):
C02F 1/20 ,  B01D 19/00 101 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504
FI (10件):
C02F 1/20 A ,  B01D 19/00 101 ,  C02F 1/42 B ,  C02F 1/44 H ,  C02F 9/00 502 A ,  C02F 9/00 502 F ,  C02F 9/00 502 J ,  C02F 9/00 502 Z ,  C02F 9/00 503 B ,  C02F 9/00 504 B
Fターム (41件):
4D006GA03 ,  4D006KA01 ,  4D006KA03 ,  4D006KA72 ,  4D006KB11 ,  4D006KB12 ,  4D006KB17 ,  4D006KD17 ,  4D006KE15Q ,  4D006KE16R ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PB23 ,  4D006PB70 ,  4D006PC02 ,  4D006PC31 ,  4D006PC42 ,  4D011AA16 ,  4D011AD03 ,  4D011AD06 ,  4D025AA04 ,  4D025AB17 ,  4D025AB33 ,  4D025AB34 ,  4D025BA08 ,  4D025BA13 ,  4D025BB04 ,  4D025CA08 ,  4D025DA01 ,  4D025DA03 ,  4D025DA05 ,  4D037AA03 ,  4D037AB11 ,  4D037AB14 ,  4D037BA23 ,  4D037BB06 ,  4D037BB07 ,  4D037BB09 ,  4D037CA01 ,  4D037CA03 ,  4D037CA15
引用特許:
審査官引用 (6件)
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