有機蒸着装置及び有機薄膜製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石島茂男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-044691
公開番号（公開出願番号）：特開2002-241925
出願日： 2001年02月21日
公開日（公表日）： 2002年08月28日
要約：

【要約】【課題】マスクをクリーニングできる技術を提供する。【解決手段】真空槽3内に反射手段21を配置し、レーザ光発生装置27から射出したレーザ光を反射させ、マスク10に照射する。マスク10表面に付着している有機薄膜が蒸発し、除去される。その蒸気は真空排気装置52によって真空槽3外に排気される。マスク10を取り外さなくてもクリーニングが行える。

請求項（抜粋）：

真空槽と、前記真空槽内に配置された基板ホルダと、前記真空槽内で前記基板ホルダと対向する位置に配置された有機蒸着源と、前記基板ホルダに配置された基板と前記有機蒸着源の間の位置に配置されたマスクと、レーザ光発生装置とを有し、前記レーザ光発生装置から射出されたレーザ光を前記マスクに照射できるように構成された有機蒸着装置。

IPC (5件)：

C23C 14/04 , C23C 14/00 , C23C 14/12 , H05B 33/10 , H05B 33/14

FI (5件)：

C23C 14/04 A , C23C 14/00 B , C23C 14/12 , H05B 33/10 , H05B 33/14 A

Fターム (11件)：

3K007AB18 , 3K007DA02 , 3K007EB00 , 3K007FA01 , 4K029AA09 , 4K029AA24 , 4K029BA62 , 4K029BB03 , 4K029BC07 , 4K029BD00 , 4K029HA01

引用特許：

審査官引用 (5件)

有機膜真空蒸着用マスク再生方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-095809 出願人：キヤノン株式会社
薄膜形成方法、薄膜形成装置、レーザー光照射装置及びボンバード装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-193102 出願人：ソニー株式会社
特開昭63-145769

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