特許
J-GLOBAL ID：200903019711224406

ポジ型レジスト組成物

発明者：
佐藤 健一郎

佐藤 健一郎 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-137840
公開番号（公開出願番号）：特開2004-341247
出願日： 2003年05月15日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：
【課題】遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術における課題を達成すべく、露光マージンの優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂(A1)及び別の特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂(A2)、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)、及び溶剤(C)を含有するポジ型レジスト組成物、または、特定の繰り返し単位、及び別の特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂(A3)、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)、及び溶剤(C)を含有するポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂(A1)、 下記一般式(2)で表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂(A2)、 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)、及び 溶剤(C) を含有するポジ型レジスト組成物。
IPC (2件)：
G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (2件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (15件)：
2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM