特許

J-GLOBAL ID：200903019711224406

ポジ型レジスト組成物

発明者： 佐藤 健一郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-137840
公開番号（公開出願番号）：特開2004-341247
出願日： 2003年05月15日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：

【課題】遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術における課題を達成すべく、露光マージンの優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂(A1)及び別の特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂(A2)、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)、及び溶剤(C)を含有するポジ型レジスト組成物、または、特定の繰り返し単位、及び別の特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂(A3)、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)、及び溶剤(C)を含有するポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂(A1)、 下記一般式(2)で表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂(A2)、 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)、及び 溶剤(C) を含有するポジ型レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (2件)：

G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (15件)：

2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025FA17

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-188414   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-196794   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-277156   出願人：信越化学工業株式会社