特許
J-GLOBAL ID：200903017417009170
ポジ型レジスト組成物
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-188414
公開番号（公開出願番号）：特開2003-005374
出願日： 2001年06月21日
公開日（公表日）： 2003年01月08日
要約：
【要約】【課題】 SEM耐性及び解像性に優れ、デフォーカスラチチュードが改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 特定のラクトンモノマー単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂の2種以上のブレンドと、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)(a1)ブチロラクトン類、(a2)ノルボルナンラクトン類、(a3)シクロヘキサンラクトン類、及び(a4)アダマンタンラクトン類から選ばれる少なくとも1種のモノマー単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を少なくとも2種、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物において、該樹脂(A)の混合物が上記(a1)〜(a4)のモノマー単位のうち少なくとも2種を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/039 601
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025FA03
, 2H025FA12
, 2H025FA17
