特許

J-GLOBAL ID：200903020035888817

自公転型基板保持装置

発明者： 山崎 猛
出願人/特許権者： アネルバ株式会社
代理人 (1件)： 田宮 寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-079813
公開番号（公開出願番号）：特開平8-250577
出願日： 1995年03月10日
公開日（公表日）： 1996年09月27日
要約：

【要約】【目的】 成膜装置に適用される自公転型基板保持装置において、基板保持具を直接的に冷却して基板温度を適切に保持し、薄膜の特性を向上する。【構成】 成膜装置に含まれる真空容器1内に配設され、成膜対象である基板8を保持する基板保持具17cと、真空容器1の外部から駆動力を与えられて基板保持具17cに公転および自転の動作をさせる動力伝達機構13,17,26を有するものであり、動力伝達機構の公転部材13と、基板保持具17cを含む自転部材17のそれぞれの内部に、互いに連通された冷却水通路を形成し、公転部材の冷却水通路の出入り口に接続される冷却水供給装置29を真空容器1の外部に備え、冷却水供給装置29から公転部材13および自転部材17に対し循環的に冷却水を供給し、基板保持具17cを冷却する。

請求項（抜粋）：

成膜装置に含まれる真空容器内に配設され、成膜対象である基板を保持する基板保持具と、前記真空容器の外部から駆動力を与えられて前記基板保持具を公転および自転させる動力伝達機構を有する自公転型基板保持装置において、前記動力伝達機構の公転部材と、前記基板保持具を含む自転部材のそれぞれの内部に、互いに連通された冷却水通路を形成し、前記公転部材の冷却水通路の出入り口に接続される冷却水供給装置を前記真空容器の外部に備え、前記冷却水供給装置から前記公転部材および前記自転部材に対し循環的に冷却水を供給し、前記基板保持具を冷却したことを特徴とする自公転型基板保持装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/203

FI (2件)：

H01L 21/68 N ,  H01L 21/203 Z

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 薄膜形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-189500   出願人：三菱電機株式会社
• イオンビーム加工装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-243396   出願人：株式会社日立製作所
• 基板取付用ステージ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-068535   出願人：株式会社エヌ・エス