特許

J-GLOBAL ID：200903020309864260

高分子材料の成型加工方法

発明者： 新納 弘之 ,  丁 西明 ,  川口 喜三 ,  佐藤 正健 ,  奈良崎 愛子 ,  黒崎 諒三
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-339782
公開番号（公開出願番号）：特開2004-168016
出願日： 2002年11月22日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：

【課題】大量かつ安価に高分子材料の表面微細加工成型品を時間効率よく製造する方法を提供する。【解決手段】流動性物質を透明材料の裏面に接触させ、透明材料の表面から強度範囲が0.01J/cm2/pulseから100J/cm2/pulseまでのレーザーを照射して表面微細加工を施して作製した透明材料を金型として用い、高分子材料を加熱して流動化状態として熱エンボス加工を行うことにより成型品を得ることを特徴とする高分子材料の成型加工方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

流動性物質を透明材料の裏面に接触させ、透明材料の表面から強度範囲が0.01J/cm2/pulseから100J/cm2/pulseまでのレーザーを照射して表面微細加工を施して作製した透明材料を金型として用い、高分子材料を加熱して流動化状態として熱エンボス加工を行うことにより成型品を得ることを特徴とする高分子材料の成型加工方法。

IPC (3件)：

B29C59/02 ,  B23K26/18 ,  B29C33/42

FI (3件)：

B29C59/02 B ,  B23K26/18 ,  B29C33/42

Fターム (17件)：

4E068AF01 ,  4E068CA01 ,  4E068CF03 ,  4E068CJ07 ,  4E068DA01 ,  4F202AA44 ,  4F202AJ06 ,  4F202AR20 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CD23 ,  4F202CK11 ,  4F209AG05 ,  4F209AJ06 ,  4F209PA02 ,  4F209PH06 ,  4F209PQ11

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特許第3012926号
  
• 微細形状転写方法および光学部品の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-199616   出願人：松下電器産業株式会社
• レーザ加工方法及び加工装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-263329   出願人：不二精機株式会社
• 特許第3012926号