膜厚測定装置および膜厚測定方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：秋山敦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-312118
公開番号（公開出願番号）：特開2001-133228
出願日： 1999年11月02日
公開日（公表日）： 2001年05月18日
要約：

【要約】【課題】本発明の目的は、真空状態を保ったままモニタ箇所を多数回変更することができる連続式薄膜形成装置に適した膜厚測定装置を提供することにある。【解決手段】本発明は、モニタ基板8に成膜された光学薄膜の膜厚を測定する膜厚測定装置Sに関する発明である。この膜厚測定装置Sは、複数のモニタ基板8を備えるモニタ基板保持手段6と、モニタ基板8を部分的に遮蔽するマスク9と、モニタ基板に成膜された薄膜の膜厚を測定するための投光手段10、受光手段10と、を備える。モニタ基板保持手段6には、このモニタ基板保持手段6を可動可能にするモニタ基板保持手段駆動手段16が設けられ、モニタ基板8には、このモニタ基板8をモニタ基板保持手段6に対して可動可能とするモニタ基板駆動手段19が設けられる。

請求項（抜粋）：

モニタ基板に成膜された光学薄膜の膜厚を測定する膜厚測定装置であって、該膜厚測定装置は、複数のモニタ基板を備えるモニタ基板保持手段と、該モニタ基板保持手段を部分的に遮蔽するモニタシールドと、前記モニタ基板を部分的に遮蔽するマスクと、前記モニタ基板に測定光を投光する投光手段と、前記モニタ基板の反射光又は透過光を受光する受光手段と、前記投光手段及び前記受光手段に接続され前記投光手段及び前記受光手段との間で光の授受を行う制御装置と、を備え、前記モニタ基板保持手段には、該モニタ基板保持手段を可動可能にするモニタ基板保持手段駆動手段が設けられ、前記モニタ基板には、該モニタ基板を前記モニタ基板保持手段に対して可動可能とするモニタ基板駆動手段が設けられることを特徴とする膜厚測定装置。

IPC (2件)：

G01B 11/06 , C23C 14/54

FI (2件)：

G01B 11/06 Z , C23C 14/54 C

Fターム (10件)：

2F065AA30 , 2F065BB01 , 2F065CC31 , 2F065DD00 , 2F065JJ01 , 2F065LL02 , 2F065PP13 , 2F065UU04 , 4K029DA10 , 4K029EA01

引用特許：

出願人引用 (8件)

膜厚モニタ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-237489 出願人：旭光学工業株式会社
特開昭51-120238
特開昭56-060310

全件表示

前のページに戻る