特許
J-GLOBAL ID：200903020370077106
レンチキュラープリント並びにレンチキュラープリントにレンチキュラーオーバーレイを位置合わせする方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-280958
公開番号（公開出願番号）：特開平8-211515
出願日： 1995年10月27日
公開日（公表日）： 1996年08月20日
要約：
【要約】【課題】 オペレータによって、レンチキュラープリント及びレンチキュラーオーバーレイを正確に位置合わせ(回転と並進の両方)できる、方法及び装置を提供する。【解決手段】 a)二種類の表面の一表面にある、複数の平行する等幅の画像束、その間に束接合部を有し且つピッチWに調整されている隣接する束、を有する画像領域、及びb)二種類の表面の一表面にある、前記束接合部の任意の一つからの限界距離に配置された位置合わせ要素を有する二次元基準表示、を含んでなる二種類の表面を有するレンチキュラープリント。
請求項（抜粋）：
a)二種類の表面の一表面にある、複数の平行する等幅の画像束、その間に束接合部を有し且つピッチWに調整されている隣接する束、を有する画像領域、並びにb)二種類の表面の一表面にある、前記束接合部の任意の一つからの限界距離に配置された位置合わせ要素を有する二次元基準表示、を含んでなる二種類の表面を有するレンチキュラープリント。
IPC (2件)：
引用特許：
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