特許
J-GLOBAL ID：200903020370262442

化学増幅型ホトレジスト組成物

発明者：
陳 啓盛

陳 啓盛 について

, 
李 晏成

李 晏成 について

, 
鄭 孟勲

鄭 孟勲 について


出願人/特許権者：
エバーライトユーエスエー インコーポレイティッド

エバーライトユーエスエー インコーポレイティッド について


代理人 (1件)： 竹本 松司 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-134879
公開番号（公開出願番号）：特開2003-345025
出願日： 2003年05月13日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：
【要約】【課題】 化学増幅型ホトレジスト組成物の提供。【解決手段】 化学構造式189で示されるユニット(II)が重複した構造のポリマーを含有する化学増幅型ホトレジスト組成物であり、R1 はH或いはC1-C4 のアルキル基、R2 は水酸基、C1 -C8 のアルコキシル基或いはC1 -C8 のチオアルキル基、Gは(CH2 )n 、O或いはS、そのうちnは0〜4の整数、Rcはラクトン基、mは1〜3の整数である。本発明の化学増幅型ホトレジスト組成物は一般のリソグラフィー工程、特に波長193nm光源のリソグラフィー工程に使用され、極めて良好な解析度、輪郭及び感光度を有する。【化189】
請求項（抜粋）：
以下の化学構造式1において(II)で示されるユニットが重複した構造を具えたポリマーを具え、【化1】そのうち、R1 はH或いはC1 -C4 のアルキル基、R2 は水酸基、C1 -C8 のアルコキシル基或いはC1 -C8 のチオアルキル基、Gは(CH2 )n 、O或いはS、そのうちnは0〜4の整数、Rcはラクトン基、mは1〜3の整数であることを特徴とする、化学増幅型ホトレジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 20/10 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 20/10 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (37件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  2H025CB60 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AJ02Q ,  4J100AJ02S ,  4J100AK32S ,  4J100AL03P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03R ,  4J100BA04R ,  4J100BA05R ,  4J100BA06R ,  4J100BA11R ,  4J100BA53R ,  4J100BC04R ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53R ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 米国特許第6,271,412号
  • 米国特許第6,280,898号
  • ポジ型レジスト組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-051811   出願人：東京応化工業株式会社
審査官引用 (2件)

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