接触蒸留技術を使用したMIBKの製造

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：社本一夫 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-554678
公開番号（公開出願番号）：特表2002-518357
出願日： 1998年06月16日
公開日（公表日）： 2002年06月25日
要約：

【要約】接触蒸留塔反応器を利用して、アセトンと水素とからメチルイソブチルケトンを製造する方法。反応は反応帯域中で起き、反応生成物を反応帯域から除去し、未反応のアセトンを還流する。従って平衡を連続的に乱し、アセトンの平衡転化率を超えることが可能になる。

請求項（抜粋）：

アセトンと水素とを処理帯域中に導入することと;該処理帯域中、前記水素の存在下で、前記アセトンに接触蒸留を施して、少なくとも幾らかの前記アセトンをメチルイソブチルケトンに転化することと;前記処理帯域からメチルイソブチルケトンを取り出すことと;を含む、メチルイソブチルケトンを製造する方法。

IPC (5件)：

C07C 45/62 , C07C 45/72 , C07C 45/82 , C07C 49/04 , C07B 61/00 300

FI (5件)：

C07C 45/62 , C07C 45/72 , C07C 45/82 , C07C 49/04 E , C07B 61/00 300

Fターム (18件)：

4H006AA02 , 4H006AC11 , 4H006AC24 , 4H006AC44 , 4H006AD11 , 4H006BA05 , 4H006BA09 , 4H006BA21 , 4H006BA25 , 4H006BA30 , 4H006BA71 , 4H006BA72 , 4H006BD33 , 4H006BD52 , 4H006BE20 , 4H039CB10 , 4H039CG10 , 4H039CL11

引用特許：

出願人引用 (8件)

特開平2-069430
特開平3-093743
特開昭49-087617

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審査官引用 (8件)

特開平2-069430
特開平3-093743
特開昭49-087617

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