特許
J-GLOBAL ID：200903020491373632

ガスバリア性構造体およびその製造方法

発明者：
鈴 木 理 之

鈴 木 理 之 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (4件)： 吉武 賢次 ,  中村 行孝 ,  紺野 昭男 ,  横田 修孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-270324
公開番号（公開出願番号）：特開2007-076314
出願日： 2005年09月16日
公開日（公表日）： 2007年03月29日
要約：
【課題】 ガスバリア性に優れ、耐久性が優れたガスバリア性構造体を提供する。【解決手段】 光硬化樹脂層と無機化合物層とをそれぞれ少なくとも1層有するガスバリア性構造体の製造方法であって、支持基材の少なくとも一方の面に形成された光硬化性樹脂層に紫外線を照射して半硬化の光硬化性樹脂層を作製する第1硬化工程と、この半硬化の光硬化性樹脂層の上に真空蒸着法により無機化合物層を形成した後、紫外線を再度照射して、前記の半硬化の光硬化性樹脂層をさらに硬化させる第2硬化工程とを行うことを特徴とする、ガスバリア性構造体の製造方法。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
光硬化樹脂層と無機化合物層とをそれぞれ少なくとも1層有するガスバリア性構造体の製造方法であって、 支持基材の少なくとも一方の面に形成された光硬化性樹脂層に紫外線を照射して半硬化の光硬化性樹脂層を作製する第1硬化工程と、 この半硬化の光硬化性樹脂層の上に真空蒸着法により無機化合物層を形成した後、紫外線を再度照射して、前記の半硬化の光硬化性樹脂層をさらに硬化させる第2硬化工程とを行うことを特徴とする、ガスバリア性構造体の製造方法。
IPC (5件)：
B32B 9/00 ,  C23C 14/06 ,  H05B 33/02 ,  H05B 33/04 ,  H01L 51/50
FI (5件)：
B32B9/00 A ,  C23C14/06 K ,  H05B33/02 ,  H05B33/04 ,  H05B33/14 A
Fターム (48件)：
3K007AB12 ,  3K007AB13 ,  3K007AB14 ,  3K007BB01 ,  3K007CA06 ,  3K007DB03 ,  4F100AA01C ,  4F100AA01D ,  4F100AA16C ,  4F100AA19C ,  4F100AA20C ,  4F100AD05C ,  4F100AK01B ,  4F100AK01D ,  4F100AK25B ,  4F100AK42 ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100EH662 ,  4F100EJ081 ,  4F100EJ082 ,  4F100EJ083 ,  4F100EJ541 ,  4F100EJ542 ,  4F100GB41 ,  4F100JB14B ,  4F100JB14D ,  4F100JD02 ,  4F100JD03 ,  4F100JD04 ,  4F100JK06 ,  4F100JK07 ,  4F100JK10 ,  4F100JK17 ,  4F100JL00 ,  4F100JL03 ,  4F100JM02C ,  4F100JN01 ,  4F100YY00 ,  4K029AA11 ,  4K029BA41 ,  4K029CA06 ,  4K029DC35 ,  4K029DC39
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (7件)
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