改良型パターン・ジェネレータ

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-102101
公開番号（公開出願番号）：特開2002-372790
出願日： 2002年04月04日
公開日（公表日）： 2002年12月26日
要約：

【要約】【課題】フォトマスクを作成するようなパターン・ジェネレータで2つのパターンを正確に重ねまたは繋ぎ合せる場合に、両パターンの回転および位置ずれ、倍率差および直交性の差を精密に補正するための装置および方法を提供すること。【解決手段】パターンの回転は、アジマス機構1006に取り付けた偏向器によりまたは電子的に行う。ステージ605上の、既に第1パターンがある基板の位置は、整列レーザ1001からの検出光でこの基板上の整列マークを走査し、その反射光を検出器1009で検出して決定し、それに応じて第2パターンを補正して投影する。この検出光は、パターン書込み光と同じレンズ1004を使って投影するが、検出光はこのレンズの露出フィールドのわずかな部分しか使わないので書込みに影響なく、収差補正も容易である。

請求項（抜粋）：

フォトマスク、表示パネル、またはマイクロオプティカル装置のような、光の放射に対して感度の高い加工品にパターンを生成するための装置であって、超紫外線(EUV)から赤外線(IR)までの波長範囲にある光を放射する光源と、前記放射によって照射されるようにされた、多重の変調素子(画素)を有する空間光変調装置(SLM)と、前記加工品上に前記変調装置の画像を生成する投影系と、書き込むべき前記パターンのデジタル記述を受信し、該パターンを変調装置用信号に変換し、前記信号を前記変調装置(601)に送信する電子データ処理及び伝送システムと、前記加工品および/または前記投影系の互いに対する位置付けを行なう精密機械システムと、前記加工品の位置、前記信号の前記変調装置への送信、および前記放射の強度を制御して、前記パターンを前記加工品上に印刷できるようにする電子制御システムと、生成すべき前記パターンの座標系を回転させるための手段を有する、前記装置。

IPC (7件)：

G03F 7/20 501 , G03F 7/20 502 , G03F 7/20 521 , G02B 5/04 , G02B 5/08 , G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/20 501 , G03F 7/20 502 , G03F 7/20 521 , G02B 5/04 Z , G02B 5/08 A , G03F 1/08 A , H01L 21/30 519

Fターム (16件)：

2H042CA04 , 2H042CA17 , 2H042DA20 , 2H042DB14 , 2H042DD04 , 2H042DE00 , 2H095BA07 , 2H095BB01 , 2H097CA12 , 2H097CA13 , 2H097LA10 , 2H097LA12 , 2H097LA17 , 5F046BA06 , 5F046CB02 , 5F046CB10

引用特許：

審査官引用 (3件)

露光方法及び半導体デバイスの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-214136 出願人：株式会社ニコン
レーザ加工方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-056158 出願人：リコーマイクロエレクトロニクス株式会社
露光装置及びこれを用いたデバイス生産方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-167376 出願人：キヤノン株式会社

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