特許
J-GLOBAL ID:200903020564697962

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 萩野 平 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-102749
公開番号(公開出願番号):特開平9-258437
出願日: 1996年04月24日
公開日(公表日): 1997年10月03日
要約:
【要約】【課題】 感度の低下を招くことなく、高解像力で、膜厚依存性及び定在波が改良された超微細加工用ポジ型フォトレジスト組成物を提供することができる。【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂、特定の2種のポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルフォン酸エステルを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
請求項(抜粋):
アルカリ可溶性樹脂、下記一般式〔I〕で表わされるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルフォン酸エステル及び下記一般式〔II〕で表わされるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルフォン酸エステルを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。一般式〔I〕【化1】ここで、X:【化2】R1〜R6 :同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜4個のアルキル基又は炭素数2〜5個のアルケニル基、R7 〜R22:同一でも異なっていてもよく、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数1〜4個のアルキル基、炭素数2〜5個のアルケニル基又はシクロアルキル基、R30〜R35:同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜4個のアルキル基を表し、R30とR31、R32とR33、又はR34とR35が互いに連結し、炭素数4又は5個のメチレン鎖を構成し、炭素原子とともに5員あるいは6員環を形成してもよい、R40、R41:同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜4個のアルキル基、R42:水素原子、水酸基又は炭素数1〜4個のアルキル基、R43:水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜4個のアルキル基、炭素数2〜5個のアルケニル基、シクロアルキル基、アリール基又はアルコキシ基、を表す。一般式〔II〕【化3】ここで、R51、R52:同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基又はシクロアルキル基、a、b:それぞれ独立に0〜3の整数、A:-C(R66)(R67)-、-O-、-S-、-C(=O)-、-C(=O)O-、-S(=O)-、-S(=O)2 -を表し(ここでR66、R67は同一でも異なっていてもよく、水素原子又はアルキル基を表す。)、【化4】を表し、R53〜R65:同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基又はシクロアルキル基、X1 、Y:同一でも異なっていてもよく、単結合又は-C(R68)(R69)-(ここで、R68、R69は同一でも異なっていてもよく、水素原子又はアルキル基である。)、g:0〜3の整数、k:0又は1n:1又は2を表す。
IPC (3件):
G03F 7/022 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027
FI (3件):
G03F 7/022 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許:
出願人引用 (4件)
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