特許
J-GLOBAL ID：200903020635488812
塗布膜形成方法および塗布装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-343637
公開番号（公開出願番号）：特開平11-165111
出願日： 1997年12月01日
公開日（公表日）： 1999年06月22日
要約：
【要約】【課題】 100P以上の高粘度の塗布液をダイを用いて塗布する場合に、品質的に問題となる塗布膜の段差ムラの発生が無い塗布方法、および塗布装置を提供する。【解決手段】 塗液の注入口と、塗液の拡散部と、塗液を一定の厚さで押し出すためのスリット部と、スリット部に塗布幅を調整するためのシム板を有するダイを、スステージ上に固定して載置された基板に対し相対的に走行させながら基板に塗液を塗布する塗布方法であって、塗布前にダイの走行方向の複数箇所におけるダイとステージ上に載置された基板間のギャップをギャップ測定部により実質的に予め測定しておき、測定された測定結果にもとづき各隣接する測定箇所間において、ダイの幅方向の両端部を基板面に略直交する方向でそれぞれ独立に昇降させることにより、所定ギャップに補正しながら塗布するもので、塗布時には、前記測定結果にもとづき各隣接する測定箇所間においてダイ進行方向移動時間とダイ昇降時間とを同調させて連続的にギャップを変化させる。
請求項（抜粋）：
塗液の注入口と、塗液の拡散部と、塗液を一定の厚さで押し出すためのスリット部と、スリット部に塗布幅を調整するためのシム板を有するダイを、ステージ上に固定して載置された基板に対し相対的に走行させながら基板に塗液を塗布する塗布方法であって、塗布前にダイの走行方向の複数箇所におけるダイとステージ上に載置された基板間のギャップをギャップ測定部により実質的に予め測定しておき、測定された測定結果にもとづき各隣接する測定箇所間において、ダイの幅方向の両端部を基板面に略直交する方向でそれぞれ独立に昇降させることにより、所定ギャップに補正しながら塗布するもので、塗布時には、前記測定結果にもとづき各隣接する測定箇所間においてダイ進行方向移動時間とダイ昇降時間とを同調させて連続的にギャップを変化させることを特徴とする塗布膜形成方法。
IPC (7件)：
B05C 5/02
, B05D 1/26
, G03F 7/16 501
, H01J 9/02
, H01J 9/24
, H01J 11/02
, H01J 17/49
B05C 5/02
, B05D 1/26 Z
, G03F 7/16 501
, H01J 9/02 F
, H01J 9/24 A
, H01J 11/02 Z
, H01J 17/49 Z
