特許
J-GLOBAL ID：200903020645262723
インクジェットプリンタのヘッドに利用されるマイクロアクチュエ-タの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-369872
公開番号（公開出願番号）：特開平11-277754
出願日： 1998年12月25日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：
【要約】【課題】インクジェットプリンタのヘッドに利用されるマイクロアクチュエータの製造方法において、酸化物圧電体と上部電極とを、半導体製作で主に応用されるパターニング工法によって、より容易にパターニングできるようにする。【解決手段】振動板、下部電極、酸化物圧電体及び上部電極を順次、積層させた状態で上部電極を、まず必要とする形状にパターニングし、パターニングされた上部電極を利用して酸化物圧電体をエッチングによってパターニングさせて製造する。また、振動板に下部電極と酸化物圧電体とを蒸着させた状態で、まず、酸化物圧電体をエッチングによってパターニングさせた後、酸化物圧電体の上部に必要とする形状に上部電極をパターニングさせて製造する。
請求項（抜粋）：
一定の間隔で液室が形成されたチャンバー板と一体に成形された振動板に下部電極及び酸化物圧電体を順次、積層させる段階と、前記酸化物圧電体の上部面にフォトレジスタを塗布した後、上記フォトレジスタの不必要な部分を除去する段階と、上記フォトレジスタが除去された部分を含めて上記フォトレジスタの上部に電極を一定の厚さに塗布する段階と、残った前記フォトレジスタを、洗滌液を使用して除去するとともに、その上部の前記電極が同時に除去されるようにして前記酸化物圧電体の上部にのみ一部の電極のみが形成される段階と、前記酸化物圧電体と上部電極との上部にフォトレジスタを全面塗布する段階と、前記フォトレジスタの不必要な部分を除去するとともに、前記上部電極の上部に残るフォトレジスタを少なくとも前記上部電極よりは面積が大きく残るようにする段階と、前記フォトレジスタが除去された前記酸化物圧電体を、エッチング物質を利用してパターニングさせる段階と、前記上部電極の上部に形成されているフォトレジスタを除去する段階とを含んで構成されるインクジェットプリンタのヘッドに利用されるマイクロアクチュエータの製造方法。
IPC (4件)：
B41J 2/16
, B41J 2/045
, B41J 2/055
, H01L 41/09
B41J 3/04 103 H
, B41J 3/04 103 A
, H01L 41/08 C
