特許
J-GLOBAL ID：200903020647020310

フオトレジスト用感光性樹脂組成物

発明者：
宮川 堅次

宮川 堅次 について

, 
瀬古 健治

瀬古 健治 について


出願人/特許権者：
関西ペイント株式会社

関西ペイント株式会社 について


代理人 (1件)： 小田島 平吉 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-282041
公開番号（公開出願番号）：特開2000-147767
出願日： 1998年09月18日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
要約：
【要約】【課題】 高感度でレーザーによる直接描画が可能なフォトレジスト用感光性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 (A)エポキシ基含有エチレン性不飽和モノマーの単独重合体もしくは共重合体(i)のエポキシ基1モルに対し、エチレン性不飽和モノカルボン酸0.8〜1.3モルの割合で反応させて得られる不飽和樹脂(ii)に、さらに二塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有不飽和樹脂、(B)エポキシ基を有さないエチレン性不飽和化合物、及び(C)光重合開始剤を含有することを特徴とするフォトレジスト用感光性樹脂組成物。
請求項（抜粋）：
(A)エポキシ基含有エチレン性不飽和モノマーの単独重合体もしくは共重合体(i)のエポキシ基1モルに対し、エチレン性不飽和モノカルボン酸を0.8〜1.3モルの割合で反応させて得られる不飽和樹脂(ii)に、さらに二塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有不飽和樹脂、(B)エポキシ基を有さないエチレン性不飽和化合物、及び(C)光重合開始剤を含有することを特徴とするフォトレジスト用感光性樹脂組成物。
IPC (7件)：
G03F 7/038 501 ,  G03F 7/038 503 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/027 515 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/06
FI (7件)：
G03F 7/038 501 ,  G03F 7/038 503 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/027 515 ,  G03F 7/028 ,  H05K 3/06 H ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (32件)：
2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB15 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC32 ,  2H025BC42 ,  2H025BC53 ,  2H025BC81 ,  2H025BC85 ,  2H025CA18 ,  2H025CA39 ,  2H025CA41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA17 ,  5E339AB02 ,  5E339AB05 ,  5E339BC02 ,  5E339BC05 ,  5E339BE13 ,  5E339CC01 ,  5E339CD01 ,  5E339CE12 ,  5E339CF16 ,  5E339CF17 ,  5E339DD03 ,  5E339FF01 ,  5E339GG10
引用特許：
審査官引用 (8件)
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