特許
J-GLOBAL ID:200903020733569987
ポジ型レジスト組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西川 繁明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-325847
公開番号(公開出願番号):特開平7-152152
出願日: 1993年11月30日
公開日(公表日): 1995年06月16日
要約:
【要約】【目的】 感度、残膜率、解像度、耐熱性、保存安定性などの諸特性の優れた、特に1μm以下の微細加工に適したポジ型レジスト組成物を提供すること。【構成】 アルカリ可溶性フェノール樹脂と感光剤を含有するポジ型レジスト組成物において、該感光剤として下記一般式〔I〕で示されるフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】(式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基であり、R3〜R6は、炭素数1〜4のアルキル基である。)
請求項(抜粋):
アルカリ可溶性フェノール樹脂と感光剤を含有するポジ型レジスト組成物において、該感光剤として下記一般式〔I〕で示されるフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】(式中、R1及びR2は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基であり、R3〜R6は、炭素数1〜4のアルキル基である。)
IPC (2件):
引用特許:
出願人引用 (5件)
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特開平2-285351
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特開平3-228057
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感光性化合物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-055880
出願人:ソニー株式会社
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ポジ型レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-346400
出願人:住友化学工業株式会社
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ポジ型レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-223634
出願人:住友化学工業株式会社
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審査官引用 (5件)
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特開平2-285351
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特開平3-228057
-
感光性化合物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-055880
出願人:ソニー株式会社
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ポジ型レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-346400
出願人:住友化学工業株式会社
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ポジ型レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-223634
出願人:住友化学工業株式会社
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