集束イオンビーム装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：坂上正明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-048263
公開番号（公開出願番号）：特開2002-251976
出願日： 2001年02月23日
公開日（公表日）： 2002年09月06日
要約：

【要約】【課題】集束イオンビーム装置の液体金属イオン源を安定稼動させる。【解決手段】液体金属イオン源の後段に収束レンズを配置し、かつ前記収束レンズの後段にビーム制限絞りを設けたことを特徴とする集束イオンビーム装置。

請求項（抜粋）：

イオンを発生する液体金属イオン源と、前記イオンを加速し集束させ、集束イオンビームとするイオン光学系と、前記集束イオンビームを走査する偏向電極と、前記集束イオンビーム照射により試料の表面から放出される2次荷電粒子を検出する検出器と、前記検出器により検出された2次荷電粒子の信号に基づいて試料表面像を表示する画像表示装置と、前記試料を移動させるための試料ステージより構成される集束イオンビーム装置において、前記イオン光学系は少なくとも前記液体金属イオン源から放出するイオンを収束するための収束レンズと、前記集束イオンビームを試料上で最小ビーム径となるようにビーム径を調整するための対物レンズから構成され、前記液体金属イオン源の後段に収束レンズを配置し、かつ前記収束レンズの後段にビーム制限絞りを設けたことを特徴とする集束イオンビーム装置。

IPC (5件)：

H01J 37/317 , G01N 27/62 , H01J 37/09 , H01J 37/12 , H01L 21/3205

FI (6件)：

H01J 37/317 D , G01N 27/62 G , G01N 27/62 E , H01J 37/09 A , H01J 37/12 , H01L 21/88 Z

Fターム (11件)：

5C033BB01 , 5C033BB09 , 5C033CC04 , 5C034DD01 , 5C034DD03 , 5F033PP07 , 5F033PP31 , 5F033QQ08 , 5F033QQ14 , 5F033QQ53 , 5F033XX36

引用特許：

審査官引用 (6件)

集束イオンビーム加工用ガスノズル
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-176518 出願人：株式会社日立製作所
特開昭63-187542
特開昭56-019856

全件表示

前のページに戻る