特許
J-GLOBAL ID：200903021199824751
プラズマCVD装置用サセプタ及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
竹内 澄夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-163571
公開番号（公開出願番号）：特開平10-340896
出願日： 1997年06月06日
公開日（公表日）： 1998年12月22日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】サセプタへのウエハ基板の吸着を防止し,プロセス安定性及び再現性の高いサセプタを与える。【解決手段】プラズマCVD用のサセプタが与えられる。サセプタ表面は連続して形成された凹部及び凸部を有し,該凸部において急峻な突起部が完全に除去されている。該サセプタはアルミニウムまたはアルミニウム合金から成り,その表面のRa値は1μm≦Ra≦8μmに制御され,サセプタのウエハ保持面積の50〜80%がウエハと接触する。サセプタの表面を粗化処理する方法は,サセプタの表面を機械的に平坦加工する工程と,平坦加工されたサセプタの表面をショットブラスト処理する工程と,ショットブラスト処理されたサセプタの表面を化学的,電気化学的及び/又は機械的に研磨処理する工程とから成る。
請求項（抜粋）：
プラズマCVD装置用のサセプタであって,該表面は連続して形成された凹部及び凸部を有し,該凸部において急峻な突起部が完全に除去されていることを特徴とするサセプタ。
IPC (4件)：
H01L 21/31
, C23C 16/44
, H01L 21/205
, H01L 21/68
H01L 21/31 F
, C23C 16/44 H
, H01L 21/205
, H01L 21/68 N
