特許
J-GLOBAL ID：200903021241292722
インプリント方法、インプリント装置およびチップの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-244326
公開番号（公開出願番号）：特開2007-137051
出願日： 2006年09月08日
公開日（公表日）： 2007年06月07日
要約：
【課題】高いスループットを実現するための新規なインプリント方法を提供する。【解決手段】モールドが有するインプリントパターンを、基板上のパターン転写物に転写するインプリント方法において、 前記インプリントパターンと前記パターン転写物とを接触させ、 前記モールドと前記基板との間に、第1の圧力をかけて、前記インプリントパターンと前記パターン転写物との接触面積を広げ、前記第1の圧力よりも低い第2の圧力で、前記モールドと前記基板との位置関係を調節する。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
モールドが有するインプリントパターンを、基板上のパターン転写物に転写するインプリント方法において、
前記インプリントパターンと前記パターン転写物とを接触させ、
前記モールドと前記基板との間に、第1の圧力をかけて、前記インプリントパターンと前記パターン転写物との接触面積を広げ、
前記第1の圧力よりも低い第2の圧力で、前記モールドと前記基板との位置関係を調節することを特徴とするインプリント方法。
IPC (3件)：
B29C 59/02
, H01L 21/027
, B81C 5/00
B29C59/02 Z
, H01L21/30 502D
, B81C5/00
4F209AA36
, 4F209AC05
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AR02
, 4F209AR07
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PN06
, 4F209PN13
, 5F046AA25
, 5F046AA28
, 5F046BA10
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (7件)
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