特許
J-GLOBAL ID：200903021242039370
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-341322
公開番号（公開出願番号）：特開平9-179288
出願日： 1995年12月27日
公開日（公表日）： 1997年07月11日
要約：
【要約】【課題】 光半透過膜たるモリブデンシリサイド膜を透明基板上に反応性スパッタリング法で成膜する際、混合ガス雰囲気の成分ガス流量によってMoSi膜の透過率および膜厚を容易に制御できるようにする。【解決手段】 ハーフトーン形位相シフトマスクブランクの光半透過膜を、酸素、窒素、珪素及び金属を主たる構成要素とする物質からなる薄膜で構成する。この薄膜を製造するに際し、モリブデンと珪素の混合ターゲットを用いた反応性スパッタリング法によって透明基板上に成膜する。このとき雰囲気ガスとしてアルゴンガスと亜酸化窒素の混合ガスを流し、その亜酸化窒素ガスの流量を25sccm以下の範囲に抑えて、その流量を調整することにより透過率、膜厚を制御する。
請求項（抜粋）：
実質的に露光に寄与しない強度の光を透過させる光半透過膜を酸素、窒素、珪素及び金属を主たる構成要素とする物質からなる膜で構成し、この膜を成膜室で金属と珪素の混合ターゲットを用いた反応性スパッタリング法により透明基板上に成膜する位相シフトマスクブランクの製造方法において、前記成膜室に不活性ガスと亜酸化窒素の混合ガスを流し、該混合ガスのうちの亜酸化窒素ガスの流量を、前記酸素、窒素、珪素及び金属を主たる構成要素とする物質からなる膜の露光光に対する光透過率が所定範囲となるような流量に制御したことを特徴とした位相シフトマスクブランクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
