特許
J-GLOBAL ID：200903021335716313

周期性パターンのムラ検査装置

発明者：
稲村 崇

稲村 崇 について

, 
郡嶋 政司

郡嶋 政司 について

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谷澤 恵一

谷澤 恵一 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


代理人 (8件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-018325
公開番号（公開出願番号）：特開2006-208084
出願日： 2005年01月26日
公開日（公表日）： 2006年08月10日
要約：
【課題】周期性パターンに発生するスジ状ムラを安定的、高精度に撮像、検出可能なムラ検査装置を提供する。【解決手段】基板を水平に保持し、基板を二次元平面視野内でX軸方向およびY軸方向にそれぞれ移動させる移動機構を備えたXYステージ21と、基板の周期性パターンに対して斜め透過照明を個別に行う4つの光源11A-11Dと、XYステージを挟んで光源の反対側に配置され、斜め透過照明された周期性パターンにおける回折光を撮像する撮像手段31と、基板に対して光源の各々を二次元平面視野内で個別に移動させる移動手段13と、光源が移動されたときに、周期性パターンに対して光源から斜め透過光があたるように移動手段と連動して光源の向きを変えさせる姿勢変更手段12と、周期性パターンに対して光源による斜め透過照明の入射角度が変わるように、移動手段および姿勢変更手段の動作をそれぞれ設定する光学条件4軸設定手段40a-40cとを備える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
矩形基板上の周期性パターンに発生するスジ状ムラを検査するための周期性パターンのムラ検査装置であって、 前記基板を実質的に水平に保持し、該基板を二次元平面視野内でX軸方向およびY軸方向にそれぞれ移動させる移動機構を備えたXYステージと、 前記XYステージ上の基板の周期性パターンに対して斜め透過光の照明を個別に行う4つの光源と、 前記XYステージを挟んで前記光源の反対側に配置され、前記光源によって斜め透過光照明された前記周期性パターンにおける回折光を撮像する撮像手段と、 前記XYステージ上の基板に対して前記光源の各々を二次元平面視野内で個別に移動させる移動手段と、 前記移動手段によって前記光源が移動されたときに、検査対象となる前記周期性パターンに対して前記光源から斜め透過光の照明があたるように、前記移動手段と連動して前記光源の向きを変えさせる姿勢変更手段と、 検査対象となる前記周期性パターンに対して前記光源による斜め透過光の照明の入射角度が変わるように、前記移動手段および前記姿勢変更手段の動作をそれぞれ設定する光学条件4軸設定手段と、 を具備することを特徴とする周期性パターンのムラ検査装置。
IPC (4件)：
G01N 21/956 ,  G01M 11/00 ,  H01J 9/14 ,  H01J 9/42
FI (5件)：
G01N21/956 Z ,  G01M11/00 T ,  H01J9/14 G ,  H01J9/14 H ,  H01J9/42 A
Fターム (16件)：
2G051AA56 ,  2G051AA73 ,  2G051AA90 ,  2G051AB02 ,  2G051AB20 ,  2G051BA02 ,  2G051BA08 ,  2G051CA04 ,  2G051CB02 ,  2G051DA07 ,  2G051EA12 ,  2G086EE05 ,  2G086EE10 ,  2G086EE12 ,  5C012AA02 ,  5C027HH29
引用特許：
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (11件)
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