特許
J-GLOBAL ID：200903021350651740
光源装置、及びそれを用いた露光装置、デバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
西山 恵三
, 内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-098000
公開番号（公開出願番号）：特開2007-273749
出願日： 2006年03月31日
公開日（公表日）： 2007年10月18日
要約：
【課題】 プラズマから発生するデブリ粒子によって、光源装置内のミラーが劣化するのを防ぐことを目的とする。【解決手段】 本発明のEUV露光装置は、プラズマを生成する手段と、前記プラズマから発する光を反射するミラーと、前記プラズマと前記ミラーとの間に、前記光が発光する発光中心を通る軸を中心として放射状に配置された複数の板状部材と、前記プラズマと前記ミラーとの間に磁力線を発生させる磁場発生手段と、を備えており、前記プラズマと前記ミラーとの間の第1位置における前記磁力線の方向が、前記軸と同一平面内で且つ前記第1位置における前記発光点からの放射方向と垂直な成分を有しており、前記第1位置が、前記複数の板状部材で挟まれた第1空間内或いは前記第1空間と前記プラズマとの間の第2空間内のいずれかに位置していることを特徴としている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
プラズマを生成する手段と、
前記プラズマから発する光を反射するミラーと、
前記プラズマと前記ミラーとの間に、前記光が発光する発光中心を通る軸を中心として放射状に配置された複数の板状部材と、
前記プラズマと前記ミラーとの間に磁力線を発生させる磁場発生手段と、
を備えており、
前記プラズマと前記ミラーとの間の第1位置における前記磁力線の方向が、前記軸と同一平面内であって且つ前記第1位置における前記発光点からの放射方向と垂直な成分を有しており、
前記第1位置が、前記複数の板状部材で挟まれた第1空間内或いは前記第1空間と前記プラズマとの間の第2空間内のいずれかに位置していることを特徴とする光源装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 531S
, G03F7/20 503
2H097CA08
, 2H097CA15
, 2H097LA10
, 5F046GB01
, 5F046GC03
出願人引用 (1件)
審査官引用 (7件)
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