特許
J-GLOBAL ID：200903010746227290
デブリ軽減システムを有するリソグラフィ装置、デブリ軽減システムを有するEUV放射線発生源、及びデブリを軽減させる方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
稲葉 良幸
, 大賀 眞司
, 大貫 敏史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-546878
公開番号（公開出願番号）：特表2007-522646
出願日： 2004年12月31日
公開日（公表日）： 2007年08月09日
要約：
リソグラフィ装置が開示される。この装置は、放射線ビームを供給する照明システムと、パターン付与構造体を支持する支持構造体とを含む。このパターン付与構造体は、放射線ビームの断面にパターンを与えるように構成される。この装置はまた、基板を支持する基板支持部と、パターン付与されたビームを基板の標的部分に投影する投影システムと、リソグラフィ装置の少なくとも一部分を使用する際に形成されるデブリ粒子を軽減させるデブリ軽減システムとを含む。このデブリ軽減システムは、磁場を印加し、それによって少なくとも荷電デブリ粒子が軽減されるように構成される。
請求項（抜粋）：
放射線ビームを供給する照明システムと、
前記放射線ビームの断面にパターンを与えるように構成されたパターン付与構造体を支持する支持構造体と、
基板を支持する基板支持部と、
前記パターン付与されたビームを前記基板の標的部分に投影する投影システムと、
前記リソグラフィ装置の少なくとも一部分を使用する際に形成されるデブリ粒子を軽減させるデブリ軽減システムであって、磁場を印加し、それによって少なくとも荷電デブリ粒子が軽減されるように構成されるデブリ軽減システムとを含む、リソグラフィ装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G21K 1/00
, G21K 5/02
, H05G 2/00
H01L21/30 531S
, G21K1/00 X
, G21K5/02 X
, H05G1/00 K
4C092AA04
, 4C092AA10
, 4C092AB19
, 4C092AC09
, 4C092BD20
, 5F046GA03
, 5F046GC03
