特許
J-GLOBAL ID：200903021467128585
N-アセチルシクロヘキシルグリシン類の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-149416
公開番号（公開出願番号）：特開2000-336072
出願日： 1999年05月28日
公開日（公表日）： 2000年12月05日
要約：
【要約】【課題】 N-アセチルシクロヘキシルグリシン類を高選択率、高収率で且つ安価に製造する方法の提供。【解決手段】 下記一般式(I)【化1】(式中、R1 は水素原子又はアミノ基保護基を表し、R2 は水素原子又はカルボキシル基保護基を表す)で示されるN-アセチルシクロヘキシルグリシン類の製造方法において、下記一般式(II)【化2】(式中、R1 及びR2 は式(I)と同義である)で示されるN-アセチルフェニルグリシン類をニッケル触媒の存在下、核水素化する。
請求項（抜粋）：
下記一般式(I)【化1】(式中、R1 は水素原子又はアミノ基保護基を表し、R2 は水素原子又はカルボキシル基保護基を表す)で示されるN-アセチルシクロヘキシルグリシン類の製造方法において、下記一般式(II)【化2】(式中、R1 及びR2 は式(I)と同義である)で示されるN-アセチルフェニルグリシン類をニッケル触媒の存在下、核水素化することを特徴とするN-アセチルシクロヘキシルグリシン類の製造方法。
IPC (4件)：
C07C231/12
, B01J 25/02
, C07C233/47
, C07B 61/00 300
C07C231/12
, B01J 25/02 X
, C07C233/47
, C07B 61/00 300
4H006AA02
, 4H006AC11
, 4H006BA21
, 4H006BA70
, 4H006BB31
, 4H006BB45
, 4H006BC35
, 4H006BE20
, 4H006BJ50
, 4H006BS10
, 4H006BT12
, 4H006BT14
, 4H006BT16
, 4H006BV22
, 4H039CA40
, 4H039CB10
