有機EL素子の製造方法及び製造装置

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：西川惠清 , 森厚夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-187228
公開番号（公開出願番号）：特開2007-005249
出願日： 2005年06月27日
公開日（公表日）： 2007年01月11日
要約：

【課題】有機EL膜を蒸着で形成するにあたって、蒸着時間を短縮することができると同時に、膜厚を再現性高く確保して成膜することができる有機EL素子の製造方法及を提供する。【解決手段】有機EL膜用の材料を蒸着して成膜することによって有機EL発光素子を製造する。その際に、高蒸発レートで蒸着材料を目標とする膜厚以下にまで蒸着し、この蒸着膜厚を測定した後、膜厚測定結果に基づいて、低蒸発レートで蒸着材料を目標とする膜厚まで蒸着する。高蒸発レートで蒸着材料を目標とする膜厚以下にまで蒸着することによって、蒸着時間を短縮することができる。そして高蒸発レートで蒸着を行なうと膜厚のずれが大きいが、高蒸発レートで蒸着した膜厚を測定し、測定値と目標とする膜厚との差を、低蒸発レートで蒸着することによって、目標とする膜厚とずれの小さい膜厚で成膜することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

有機EL膜用の材料を蒸着して成膜することによって有機EL発光素子を製造するにあたって、高蒸発レートで蒸着材料を目標とする膜厚以下にまで蒸着し、この蒸着膜厚を測定した後、膜厚測定結果に基づいて、低蒸発レートで蒸着材料を目標とする膜厚まで蒸着することによって、成膜することを特徴とする有機EL素子の製造方法。

IPC (3件)：

H05B 33/10 , H01L 51/50 , C23C 14/06

FI (3件)：

H05B33/10 , H05B33/14 A , C23C14/06 Q

Fターム (13件)：

3K007AB18 , 3K007DB03 , 3K007FA00 , 3K007FA01 , 4K029AA09 , 4K029AA24 , 4K029BA62 , 4K029BB02 , 4K029CA01 , 4K029DB06 , 4K029DB14 , 4K029EA01 , 4K029EA02

引用特許：

出願人引用 (1件)

真空蒸着装置及び真空蒸着方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-187123 出願人：松下電工株式会社, 城戸淳二

審査官引用 (7件)

スパッタリング成膜方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-279373 出願人：キヤノン株式会社
光学薄膜の作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-321299 出願人：旭硝子株式会社
光学薄膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-053933 出願人：オリンパス光学工業株式会社

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