特許
J-GLOBAL ID：200903073875204141
光学薄膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-053933
公開番号（公開出願番号）：特開平11-246968
出願日： 1998年03月05日
公開日（公表日）： 1999年09月14日
要約：
【要約】【課題】 スパッタリング法による成膜であっても、プラズマに影響されることなく成膜時の膜厚を正確に監視して高精度に膜厚を制御する。【解決手段】 光源2から出射した光線7を基板8上で反射させ、プラズマに起因する光の波長域以外の波長域における反射光の強度を受光手段6で検出し、受光手段6の出力より成膜中の膜厚を算出することにより、膜厚を制御する。スパッタリング時のプラズマに起因して生じる光の波長域以外の強度を検出するため、プラズマからの光がノイズとなることがなく、膜厚を正確に把握することができ、高精度に制御した成膜ができる。
請求項（抜粋）：
高周波スパッタリング法によって光学薄膜を製造する方法において、光源から出射した光線を基板上で反射させ、プラズマに起因する光の波長域以外の波長域における反射光の強度を受光手段で検出し、この受光手段の出力より成膜中の膜厚を算出し、この算出結果に基づいて薄膜の形成を終了することを特徴とする光学薄膜の製造方法。
IPC (3件)：
C23C 14/34
, C23C 14/54
, G02B 1/11
C23C 14/34 U
, C23C 14/54 E
, G02B 1/10 A
