特許
J-GLOBAL ID：200903021723241408
リソグラフィ機器及びデバイスの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 岩本 行夫
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-050816
公開番号（公開出願番号）：特開2005-244238
出願日： 2005年02月25日
公開日（公表日）： 2005年09月08日
要約：
【課題】光エンジンによって生成されるパターン形成されたビームの基板上の位置を、基板に対して相対的に調整する構成を提供すること。【解決手段】この構成では、それぞれ基板の点にパターン形成されたビームの一部を結像させる結像素子のアレイを、パターンを付与してパターン形成されたビームにする個々に制御可能な素子のアレイに対して相対的に移動させる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
リソグラフィ機器であって、
放射投影ビームを供給する照明システムと、
前記投影ビームの横断面にパターンを付与する働きをする個々に制御可能な素子のアレイと、
基板を支持する基板テーブルと、
前記基板の目標部分に前記パターン形成されたビームを投影する投影システムとを備え、前記投影システムが結像素子のアレイを含み、前記結像素子がそれぞれ、前記基板の前記目標部分の一部に前記パターン形成されたビームの一部を投影し、前記リソグラフィ機器がさらに、
前記結像素子のアレイを、前記個々に制御可能な素子のアレイに対して相対的に移動させるアクチュエータ・システムを備える、リソグラフィ機器。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 529
, G03F7/20 521
5F046AA06
, 5F046BA07
, 5F046CA03
, 5F046CB12
, 5F046CB20
, 5F046CC15
, 5F046DA01
, 5F046DA13
, 5F046DA14
, 5F046DA27
, 5F046DB03
, 5F046DB04
