特許
J-GLOBAL ID：200903059108162902
露光ヘッド及び露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-154931
公開番号（公開出願番号）：特開2004-062156
出願日： 2003年05月30日
公開日（公表日）： 2004年02月26日
要約：
【課題】照明手段のレーザー出射部から出射されたレーザビームの利用効率の低下を抑制すると共に、被露光面を所望のスポット径及びスポット形状のビームスポットにより露光する。【解決手段】露光ヘッド166には、第1マイクロレンズ74がDMD50における各マイクロミラーと対応するように2次元的に配列されると共に、アパーチャアレイ76のアパーチャ78が第1マイクロレンズ74の後方焦点位置に2次元的に配列されている。露光ヘッド166では、第1マイクロレンズ74により後方焦点位置に形成される縮小された光源像をレンズ系80,82により被露光面56へ投影し、この光源像をビームスポットBSとして被露光面56を露光する。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
露光面を複数本のレーザビームにより2次元的に露光するための露光ヘッドであって、
レーザー出射部からレーザビームを出射する照明手段と、
制御信号に応じて光変調状態がそれぞれ変化する複数個の画素部が2次元的に配列され、前記レーザー出射部から入射したレーザビームを前記画素部により露光状態及び非露光状態の何れかに変調する空間光変調素子と、
前記空間光変調素子における各画素部の像をそれぞれ結像する第1の光学系と、
前記複数個の画素部と対応するように2次元的に配列され、前記複数個の画素部の結像位置にそれぞれ支持される複数の第1のマイクロレンズとを有し、
前記第1のマイクロレンズの後方焦点位置に形成される前記レーザー出射部の光源像を前記露光面へ投影し、該光源像をビームスポットとして前記露光面を露光することを特徴とする露光ヘッド。
IPC (7件)：
G03F7/20
, G02B3/00
, G02B6/04
, G02B6/42
, G02B27/18
, G03F7/207
, H01L21/027
G03F7/20 505
, G02B3/00 A
, G02B6/04 B
, G02B6/42
, G02B27/18 Z
, G03F7/207 Z
, H01L21/30 529
2H037AA04
, 2H037BA03
, 2H037BA07
, 2H037DA03
, 2H037DA04
, 2H037DA05
, 2H037DA06
, 2H037DA36
, 2H046AA02
, 2H046AA31
, 2H046AA42
, 2H046AD10
, 2H097AA03
, 2H097AB05
, 2H097CA17
, 2H097LA11
, 5F046BA07
, 5F046CA03
, 5F046CB18
