特許

J-GLOBAL ID：200903067881172014

多重露光描画装置および多重露光描画方法

発明者： 奥山 隆志
出願人/特許権者： ペンタックス株式会社
代理人 (1件)： 松浦 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-399121
公開番号（公開出願番号）：特開2003-195512
出願日： 2001年12月28日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
要約：

【要約】【課題】 連続性および一体性の良好なパターンの全体を描画できる多重露光描画装置を得る。【解決手段】 多重露光描画装置はY方向に配列された複数の露光ユニットを備える。各露光ユニットの多重露光により回路パターンを部分的に帯状領域Ra01、Ra02、Ra03・・・に描画し、帯状領域Ra01、Ra02、Ra03・・・をY方向に一部重ね合わせて繋ぐことにより回路パターン全体を得る。隣り合う2つの帯状領域の境界部Rb01、Rb02・・・を露光するマイクロミラーの数をX方向およびY方向に沿って一定の割合で漸減させるまたは増加させ、一体的かつ連続性の良好な回路パターンを得る。

請求項（抜粋）：

第1方向に沿って並ぶ複数の部分パターンを多重露光によって描画面上に描画することにより、前記部分パターンを繋ぎ合わせたパターンの全体を得る多重露光描画装置であって、マトリクス状に配置される多数の変調素子を有し、前記部分パターンのラスタデータに基づいて前記変調素子を駆動する露光ユニットと、前記露光ユニットを第1方向に沿って前記部分パターンの数と同数分だけ配列する配列手段と、前記描画面を前記第1方向と異なる第2方向に沿って前記露光ユニットに対して相対移動させる移動手段と、隣り合う2つの前記部分パターンを描画する各露光ユニットについて、前記部分パターンが重なる境界領域に対応する変調素子の駆動すべき数を前記第2方向に沿って一定の割合で漸減させるまたは漸増させる変調素子選択手段とを備えることを特徴とする多重露光描画装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 501 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/00

FI (6件)：

G03F 7/20 501 ,  H05K 3/00 G ,  H05K 3/00 H ,  H01L 21/30 514 A ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 529

Fターム (13件)：

2H097AA03 ,  2H097AA11 ,  2H097BB04 ,  2H097BB10 ,  2H097CA03 ,  2H097CA12 ,  2H097LA09 ,  5F046AA11 ,  5F046BA03 ,  5F046CB01 ,  5F046CB02 ,  5F046CB18 ,  5F046CB23

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 高精度リソグラフィ用グラフィックス・エンジン
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2003-527490   出願人：マイクロニックレーザーシステムズアクチボラゲット
• 画像記録装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-315523   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 露光記録方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-027640   出願人：富士写真フイルム株式会社