特許
J-GLOBAL ID:200903021837222802

プレーナー型ガルバノ装置及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-096587
公開番号(公開出願番号):特開2002-296517
出願日: 2001年03月29日
公開日(公表日): 2002年10月09日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 可動板上面へのコイル、絶縁膜、保護膜形成等による可動板の反りの発生を最小限にするプレーナー型ガルバノ装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】反射ミラー面と同一面に引張応力の強い膜を形成したプレーナー型ガルバノ装置とし、シリコン貼り合わせ基板(SOI基板)の上下面を熱酸化してシリコン酸化膜形成する工程と、基板上面側にフォトリソグラフによりコイル(30)、絶縁膜(31)、保護膜32の各パターンを積層する工程と、中間層に至る支持基板(シリコン)を異方性エッチングにより除去する工程と、可動板下面に残留する中間層をドライエッチングにより除去する工程と、シリコン面を露出させた上に反射ミラーを形成する工程を有し、反射ミラー面の下地として引張応力の強い膜を形成する工程を有するプレーナー型ガルバノ装置の製造方法。
請求項(抜粋):
基板に、可動板と可動板を基板に対し揺動可能に軸支するトーションバーを一体に形成し、可動板の一面に反射ミラーを形成し、可動板の他面に駆動用平面コイルを形成し、前記可動板を揺動するプレーナー型ガルバノ装置において、反射ミラー面と同一面に引張応力の強い膜を形成したことを特徴とするプレーナー型ガルバノ装置。
IPC (3件):
G02B 26/08 ,  G02B 5/08 ,  G02B 26/10 104
FI (3件):
G02B 26/08 E ,  G02B 5/08 A ,  G02B 26/10 104 Z
Fターム (14件):
2H041AA12 ,  2H041AB14 ,  2H041AC04 ,  2H041AZ01 ,  2H041AZ08 ,  2H042DA02 ,  2H042DA12 ,  2H042DA15 ,  2H042DA18 ,  2H042DD11 ,  2H042DE07 ,  2H045AB02 ,  2H045AB16 ,  2H045AB73
引用特許:
審査官引用 (6件)
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