特許
J-GLOBAL ID：200903021872269960

基板洗浄装置

発明者：
村岡 祐介

村岡 祐介 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 大坪 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-194973
公開番号（公開出願番号）：特開2000-005709
出願日： 1998年06月24日
公開日（公表日）： 2000年01月11日
要約：
【要約】【課題】 多量の純水を使用することなく、基板を清浄に洗浄処理することができる基板洗浄装置を提供することを目的とする。【解決手段】 基板処理装置1は、そこに貯留した純水により基板Wを洗浄処理するための処理槽11と、処理槽11内に供給ノズル12を介して純水を供給するための純水供給路13と、処理槽11内に貯留された純水を急速に排出するための排出口14と、処理槽11の上方に配設された一対の蓋部材15と、蓋部材15に配設された純水ノズルを介して基板Wに純水を供給するための純水供給路16と、蓋部材15に配設された窒素ガスノズルを介して処理槽内11に窒素ガスを供給するための窒素ガス供給路17とを備える。
請求項（抜粋）：
基板を純水により洗浄処理する基板洗浄装置であって、そこに貯留した純水により基板を洗浄処理するための処理槽と、前記処理槽に純水を供給するための純水供給手段と、前記処理槽から純水を排出するための排出手段と、前記処理槽内の基板に乾燥防止液を供給するための乾燥防止液供給手段と、前記処理槽内に不活性ガスを供給するための不活性ガス供給手段と、を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (4件)：
B08B 3/04 ,  B08B 5/00 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304 648
FI (4件)：
B08B 3/04 B ,  B08B 5/00 Z ,  H01L 21/304 642 F ,  H01L 21/304 648 J
Fターム (11件)：
3B116AA03 ,  3B116AB08 ,  3B116BB02 ,  3B116BB03 ,  3B116BB89 ,  3B201AA03 ,  3B201BB03 ,  3B201BB04 ,  3B201BB22 ,  3B201BB93 ,  3B201BB99
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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