特許
J-GLOBAL ID：200903021892383556
エキシマレ-ザ耐性を向上した石英ガラスの製造方法及び石英ガラス部材
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-336755
公開番号（公開出願番号）：特開平10-330120
出願日： 1997年12月08日
公開日（公表日）： 1998年12月15日
要約：
【要約】【課題】 従来の2光子吸収過程を抑制した石英ガラスであっても、これを用いて装置を構成したとき、充分な結像性能やスループットが得られないという問題があった。【解決手段】 溶存する水素分子濃度が5×1018(分子/cm3)以下であり、エキシマレーザを照射したときの1光子吸収及び2光子吸収の前駆体となる欠陥が実質的にない石英ガラス部材を提案する。
請求項（抜粋）：
エキシマレーザ光を光源とする光学系において使用される石英ガラス部材において、溶存する水素分子濃度が5×1018(分子/cm3)以下であり、エキシマレーザを照射したときの1光子吸収及び2光子吸収の前駆体となる欠陥が実質的にないことを特徴とする石英ガラス部材。
IPC (3件)：
C03B 11/00
, C03C 3/06
, G02B 1/02
C03B 11/00 B
, C03C 3/06
, G02B 1/02
