特許

J-GLOBAL ID：200903021941562887

真空容器

発明者： 三嶋 和彦
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-087578
公開番号（公開出願番号）：特開平11-283972
出願日： 1998年03月31日
公開日（公表日）： 1999年10月15日
要約：

【要約】【課題】真空容器を構成するセラミックスや石英ガラスがハロゲン系腐食性ガスや混合ガス中の酸素などと反応して反応生成物を生成し、該反応生成物がパーティクルとして剥がれ落ちて被加工物に悪影響を与えるまでの時間を長くすることにより、真空容器のメンテナンス回数を低減し、装置の稼動効率を高める。【解決手段】少なくともハロゲン系腐食性ガス及び/又はプラズマに曝される部位をセラミックス又は石英ガラスにより形成し、その表面に複数個の凹部3を設けてチャンバやベルジャをなす真空容器1を構成する。

請求項（抜粋）：

少なくともハロゲン系腐食性ガス及び/又はプラズマに曝される部位がセラミックス又は石英ガラスからなり、その表面に複数個の凹部を有することを特徴とする真空容器。

IPC (5件)：

H01L 21/3065 ,  B01J 3/00 ,  C23C 14/00 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205

FI (5件)：

H01L 21/302 B ,  B01J 3/00 K ,  C23C 14/00 C ,  C23F 4/00 Z ,  H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 真空処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-156973   出願人：アネルバ株式会社
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-184614   出願人：松下電子工業株式会社
• ECRプラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-306666   出願人：ソニー株式会社