特許
J-GLOBAL ID:200903022022766944
層内レンズの形成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
松隈 秀盛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-332896
公開番号(公開出願番号):特開2000-164837
出願日: 1998年11月24日
公開日(公表日): 2000年06月16日
要約:
【要約】【課題】 レンズの焦点距離を所望の距離に広範囲で調節することを可能にする層内レンズの形成方法を提供する。【解決手段】 層内レンズ材料の層15上にレンズ形状のレジスト16によるマスクを形成し、エッチバックしてマスク16のレンズ形状を層内レンズ材料の層15に転写して層内レンズ7を形成する際に、レジスト16の層内レンズ材料15に対するエッチング選択比を1より大きくしてレジスト16の厚さより薄い層内7レンズを形成する。または、レジスト16の層内レンズ材料15に対するエッチング選択比を1より小さくしてレジスト16の厚さより厚い層内レンズ7を形成する。
請求項(抜粋):
層内レンズ材料の層上にレンズ形状のレジストによるマスクを形成し、エッチバックして上記マスクの上記レンズ形状を上記層内レンズ材料の層に転写して層内レンズを形成する際に、上記レジストの上記層内レンズ材料に対するエッチング選択比を1より大きくして上記レジストの厚さより薄い上記層内レンズを形成することを特徴とする層内レンズの形成方法。
IPC (5件):
H01L 27/14
, G02B 3/00
, G09F 9/00 316
, H01L 27/148
, H04N 5/335
FI (5件):
H01L 27/14 D
, G02B 3/00 Z
, G09F 9/00 316 A
, H04N 5/335 V
, H01L 27/14 B
Fターム (24件):
4M118BA01
, 4M118CA03
, 4M118CA07
, 4M118DA02
, 4M118FA33
, 4M118GA07
, 4M118GB03
, 4M118GB08
, 4M118GD03
, 4M118GD07
, 4M118HA23
, 5C024AA01
, 5C024CA00
, 5C024CA31
, 5C024EA04
, 5C024FA01
, 5C024GA11
, 5G435AA03
, 5G435AA17
, 5G435BB12
, 5G435FF07
, 5G435GG02
, 5G435HH02
, 5G435KK07
引用特許:
審査官引用 (6件)
-
固体撮像素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-029931
出願人:ソニー株式会社
-
特開平3-190166
-
特開平4-322467
全件表示
前のページに戻る