研磨布

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-081757
公開番号（公開出願番号）：特開2002-283221
出願日： 2001年03月21日
公開日（公表日）： 2002年10月03日
要約：

【要約】【課題】研磨加工時に使用する研磨布自体の長寿命化を図り、研磨対象物へのスクラッチ等を減少させ、平坦性を向上させる研磨布を提供すること。【解決手段】本発明の研磨布は、研磨布基体に樹脂を付着させて形成され、内部に多数の空孔が形成され、空孔の内面が疎水性溶液で処理されている。疎水性溶液は、ジアルキルジメチルアンモニウム、ジノリルナフタレンスルホン酸、アルキルアミンカルボン酸およびアルキルアミンスルホン酸からなる群から選択される少なくとも一種の界面活性剤を含有する。

請求項（抜粋）：

研磨布基体に樹脂を付着させて形成され、内部に多数の空孔が形成され、該空孔の内面が疎水性溶液で処理されている研磨布。

IPC (2件)：

B24B 37/00 , H01L 21/304 622

FI (2件)：

B24B 37/00 C , H01L 21/304 622 F

Fターム (4件)：

3C058AA09 , 3C058CB01 , 3C058CB02 , 3C058DA17

引用特許：

審査官引用 (5件)

半導体研磨装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-115794 出願人：株式会社ニコン
研磨パッド及び板状材の研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-213174 出願人：旭硝子株式会社
特開昭52-001693

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