特許
J-GLOBAL ID：200903022206026641

改質ジルコニア微粒子の製造方法、改質ジルコニア微粒子を含む透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材

発明者：
二神 渉

二神 渉 について

, 
村口 良

村口 良 について


出願人/特許権者：
日揮触媒化成株式会社

日揮触媒化成株式会社 について


代理人 (3件)： 鈴木 俊一郎 ,  牧村 浩次 ,  高畑 ちより
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-310706
公開番号（公開出願番号）：特開2009-132819
出願日： 2007年11月30日
公開日（公表日）： 2009年06月18日
要約：
【課題】屈折率が高く、分散性、安定性に優れた改質ジルコニア微粒子の製造方法、該改質ジルコニア微粒子を含む透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材を提供する。【解決手段】(a)ジルコニア微粉末を焼成する工程、(b)アルカリ金属を含むアルカリ存在下で粉砕する工程、(c)洗浄する工程、(d)洗浄した微粉末を分散させた水分散液をイオン交換樹脂で処理してアルカリを除去する工程、(e)アルコールに溶媒置換する工程、(f)式(1) Rn-SiX4-nで表される有機ケイ素化合物(式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、n:1〜3の整数)で表面処理する工程を経て改質ジルコニア微粒子を製造し、塗膜形成用塗布液に用いる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記の工程(a)〜(f)からなることを特徴とする改質ジルコニア微粒子の製造方法。 (a)ジルコニア微粉末を300〜800°Cで焼成する工程 (b)焼成ジルコニア微粉末を、アルカリ金属を含むアルカリ存在下で粉砕する工程 (c)粉砕後に洗浄する工程 (d)洗浄した微粉末を分散させたジルコニア微粒子水分散液をNH4型イオン交換樹脂 で処理してアルカリを除去する工程 (e)脱アルカリ処理後のジルコニア微粒子分散液をアルコールに溶媒置換する工程 (f)下記式(1)で表される有機ケイ素化合物で表面処理する工程 Rn-SiX4-n (1) (但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、n:1〜3の整数)
IPC (5件)：
C09C 3/12 ,  C09D 7/12 ,  C09D 201/00 ,  C09C 1/00 ,  C01G 25/02
FI (5件)：
C09C3/12 ,  C09D7/12 ,  C09D201/00 ,  C09C1/00 ,  C01G25/02
Fターム (34件)：
4G048AA01 ,  4G048AA02 ,  4G048AB04 ,  4G048AC08 ,  4G048AD02 ,  4G048AD04 ,  4G048AD10 ,  4J037AA08 ,  4J037CC28 ,  4J037DD05 ,  4J037EE03 ,  4J037EE26 ,  4J037EE29 ,  4J037EE33 ,  4J037EE43 ,  4J037EE46 ,  4J037FF02 ,  4J038CD001 ,  4J038CF021 ,  4J038DA061 ,  4J038DB001 ,  4J038DD001 ,  4J038DE001 ,  4J038DG001 ,  4J038DH001 ,  4J038DL001 ,  4J038HA166 ,  4J038KA06 ,  4J038MA09 ,  4J038NA01 ,  4J038NA03 ,  4J038PB08 ,  4J038PC03 ,  4J038PC08
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (8件)
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