特許
J-GLOBAL ID：200903022244479412

半導体装置の製造方法

発明者：
米田 清

米田 清 について


出願人/特許権者：
三洋電機株式会社

三洋電機株式会社 について


代理人 (1件)： 安富 耕二 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-139206
公開番号（公開出願番号）：特開平9-321310
出願日： 1996年05月31日
公開日（公表日）： 1997年12月12日
要約：
【要約】【課題】 p-SiTFTLCDのp-Siを形成するレーザーアニールにおいて、照射領域の強度の不均一に起因したトランジスタ特性の悪化を防止する。【解決手段】 エッジラインが被処理基板の垂直あるいは水平方向に対して45°の方向S1,S2になるようにラインビームを照射することで、ラインビームの強度のばらつきによりグレイサイズが十分に大きくならなかった線状の結晶化不良領域R'がソース・ドレインS,Dを結ぶキャリア移動経路を45°の角度で通過することになる。結晶化不良領域R'がソース・ドレインのコンタクトCT間を完全に分断することがなくなり、結晶化不良領域R'を通過すること無くコンタクトCT間を結ぶ電荷移動経路CPが確保され、ON電流の減少が防がれる。
請求項（抜粋）：
基板上に形成された多結晶半導体膜の状島層と、前記多結晶半導体膜の島状層中のチャンネル領域に絶縁膜を介して重畳配置されたゲート電極と、前記多結晶半導体膜の島状層中のチャンネル領域を挟むように位置するソース領域及びドレイン領域に各々接続されたソース電極及びドレイン電極を有し、前記多結晶半導体膜は、基板上に形成された非晶質半導体膜にレーザービームを照射することにより多結晶化して得られる半導体装置の製造方法において、前記レーザービームは、被照射領域のエッジラインが、前記チャンネル領域のチャンネル長方向あるいはチャンネル幅方向のいずれとも、非直角をなすように照射されることを特徴とする半導体装置の製造方法。
IPC (3件)：
H01L 29/786 ,  H01L 21/336 ,  G02F 1/136 500
FI (3件)：
H01L 29/78 627 G ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 29/78 617 L
引用特許：
審査官引用 (6件)
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