特許

J-GLOBAL ID：200903022317519175

重ね合わせ測定方法及び測定装置及び測定パターン

発明者： 斉藤 卓
出願人/特許権者： 松下電子工業株式会社
代理人 (1件)： 滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-202732
公開番号（公開出願番号）：特開平11-044664
出願日： 1997年07月29日
公開日（公表日）： 1999年02月16日
要約：

【要約】【課題】 微細パターン間の重ね合わせを直接測定し、重ね合わせ精度の向上を図る。【解決手段】 100〜500kVの加速が可能な電子顕微鏡を用い、レジストによる第一のパターンと、前記レジストによる第一のパターンの下に形成されている第二のパターンとを前記電子顕微鏡で同時に観察することによって、前記第一のパターンと前記第二のパターンとの重ね合わせずれを測定する。さらに、半導体基板上にあって、かつ半導体回路の動作に無関係な領域に、前記半導体回路の代表的な回路パターンの一部分を形成しておき、これを前記電子顕微鏡を用いて、この部分での重ね合わせを測定することで、パターンの重ね合わせ精度を製造工程の途上で判定可能である。

請求項（抜粋）：

100〜500kVの加速が可能な電子顕微鏡を用い、レジストによる第一のパターンと、前記レジストによる第一のパターンの下層に形成されている第二のパターンとを前記電子顕微鏡で同時に観察することによって、前記第一のパターンと前記第二のパターンとの重ね合わせずれを測定することを特徴とする重ね合わせ測定方法。

IPC (4件)：

G01N 23/225 ,  G01B 15/00 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G01N 23/225 ,  G01B 15/00 B ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 502 M ,  H01L 21/30 512

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 半導体装置の製造方法および測定マークパターン
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-323335   出願人：日本電気株式会社
• マーク検出方法、これを用いた位置合わせ方法、露光方法及び装置、ならびにデバイス生産方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-260092   出願人：キヤノン株式会社
• 測長用モニター
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-267608   出願人：三洋電機株式会社
• 重ね合わせ精度の測定方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-181351   出願人：日本電気株式会社