特許
J-GLOBAL ID：200903022427956015

蒸着装置およびマスクのクリーニング方法

発明者：
新東 晋

新東 晋 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-028500
公開番号（公開出願番号）：特開2009-185362
出願日： 2008年02月08日
公開日（公表日）： 2009年08月20日
要約：
【課題】シリコンからなるマスクチップを有するマスクを蒸着装置から取り出すことなくクリーニングできる蒸着装置およびマスクのクリーニング方法を提供する。【解決手段】蒸着装置は、シリコンからなり所定の膜パターンに対応する開口部を有するマスクチップ20と、マスクチップ20が複数取り付けられた支持基板10と、を有するマスク1を介して、ワーク2の被成膜面2aに膜材料32を堆積させる成膜室110,120と、成膜室110,120に接続されており、マスク1をクリーニングするプラズマ処理機構が設けられた処理室と、を備えていることを特徴とする。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
シリコンからなり所定の膜パターンに対応する開口部を有するマスクチップと、前記マスクチップが複数取り付けられた支持基板と、を有するマスクを介して、ワークの被成膜面に膜材料を堆積させる少なくとも一つの成膜室と、 前記少なくとも一つの成膜室に接続されており、前記マスクをクリーニングする処理機構が設けられた少なくとも一つの処理室と、 を備えていることを特徴とする蒸着装置。
IPC (7件)：
C23C 14/00 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  C23C 14/24 ,  C23C 16/04 ,  C23C 16/44 ,  C23C 16/50
FI (7件)：
C23C14/00 B ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  C23C14/24 G ,  C23C16/04 ,  C23C16/44 J ,  C23C16/50
Fターム (26件)：
3K107AA01 ,  3K107CC45 ,  3K107GG04 ,  3K107GG32 ,  3K107GG33 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA03 ,  4K029BB03 ,  4K029BC03 ,  4K029CA01 ,  4K029FA09 ,  4K029HA02 ,  4K030AA03 ,  4K030AA04 ,  4K030AA14 ,  4K030BA44 ,  4K030BB14 ,  4K030CA06 ,  4K030CA12 ,  4K030DA06 ,  4K030FA04 ,  4K030GA12 ,  4K030KA20 ,  4K030KA49 ,  4K030LA18
引用特許：
出願人引用 (3件)

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