試料を加工する装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-272287
公開番号（公開出願番号）：特開平9-115861
出願日： 1995年10月20日
公開日（公表日）： 1997年05月02日
要約：

【要約】【課題】ミクロンオーダーの固体の3次元構築を高精度で実施可能な装置を提供する。【解決手段】図1に示すごとくイオンカラム1,電子カラム2,試料室3,試料ステージ4,希ガスイオンカラム5,制御系20等から構成されている。【効果】(1)複合材料でも正しい3次元情報が得られる。(2)加工寸法が精度良く測定出来るためミクロンオーダーの3次元観察が高精度で可能。(3)1つの観察面で複数の画像記憶が出来るため、1つの試料で多数の3次元像が構築出来る。(4)試料台としてサイドエントリーステージを用いると加工カラムと観察カラムが試料に接近出来るのでそれぞれのビームがよく集束出来高精度の3次元構築が可能となった。

請求項（抜粋）：

エネルギービームをもって対象試料を加工する手段と、前記対象試料を観察する手段を有し、前記対象試料に対し、少なくともエネルギービームの照射方向を1次元とした2次元方向にスパッタリングを行うと共に、該スパッタリング加工前後に前記対象試料の加工面を観察する工程を有することを特徴とする試料を観察する装置。

IPC (3件)：

H01L 21/302 , C23F 4/02 , H01L 21/3065

FI (4件)：

H01L 21/302 Z , C23F 4/02 , H01L 21/302 E , H01L 21/302 D

引用特許：

審査官引用 (12件)

集束イオンビーム装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-247601 出願人：株式会社日立製作所
複合荷電粒子ビーム加工観察装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-174246 出願人：日本電子株式会社
自動焦点合わせ機能を備えた電子顕微鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-201193 出願人：日本電子株式会社

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