特許

J-GLOBAL ID：200903022547051075

基板を露光させるための装置及び方法

発明者： グレゴリー アール.バクスター ,  ジェームス エイチ.ボーシェン ,  ユージーン ジェイ.メルボン ,  ビクター エム.ジャコボ
出願人/特許権者： オーアールシー テクノロジーズ,インコーポレイティド
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-138176
公開番号（公開出願番号）：特開平11-352698
出願日： 1999年05月19日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：

【要約】【課題】 基板の近接フォトリソグラフィのための装置と方法を提供する。【解決手段】 本装置は概略垂直な位置にマスクを保持するマスクフレームを備える。可倒式プラテンが設けられ、フォトレジストを塗布された基板を水平な位置に受容する。プラテンは基板をプラテンに保持する真空チャックを備える。基板をマスクと平行な位置に配置するプラテンが傾けられる。モータが使用されてマスクを基板と近接位置へ移動し、走査露光が始められる。走査露光は平行光ビームを発生させる装置を保持するレール取り付けのシャトルによって行われる。走査露光を行うために、サーボモータがレールに沿ってシャトルを駆動させる。露光が完了すると、マスクが基板から離され、プラテンが水平位置へ降ろされる。真空チャックは露光された基板を解放して、露光済み基板がプラテンから移送される。特定のロットの基板が露光され終わるまでこの手順を繰り返す。

請求項（抜粋）：

露光パターンを与えるようにされたマスクと、前記マスクを概略垂直な位置に保持するようにされたフレームと、前記基板を概略水平な位置に受容するようにされたプラテンと、前記基板をプラテンに対して保持するようにされたチャックと、前記基板を前記マスクと概略平行な位置に配置するために前記プラテンを傾けるようにされた押し上げ装置と、前記マスクを通して前記基板へ前記基板と概略垂直な方向に放射線を供給する光源と、を備える、放射線に対して基板を露光させるための装置。

IPC (5件)：

G03F 7/20 501 ,  G09F 9/30 313 ,  H01J 9/02 ,  H01J 9/227 ,  H01J 11/02

FI (5件)：

G03F 7/20 501 ,  G09F 9/30 313 Z ,  H01J 9/02 F ,  H01J 9/227 E ,  H01J 11/02 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 縦形XYステージ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-086613   出願人：日本電信電話株式会社
• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-144575   出願人：サンエー技研株式会社
• 焼付装置および焼付方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-247974   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開昭63-174046