特許
J-GLOBAL ID:200903022584830963

光触媒膜、光触媒膜の製造方法、物品および親水化方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中村 静男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-178845
公開番号(公開出願番号):特開2009-208062
出願日: 2008年07月09日
公開日(公表日): 2009年09月17日
要約:
【課題】 太陽光源照射下において光励起超親水性を示すが、有機物に対する分解活性が抑制された新規な光触媒膜を提供する。【解決手段】 光半導体粒子を少なくとも一方の主表面に含有し、光照射によって前記主表面が親水化する光触媒膜であって、暗所保持後に半値幅15nm以下の光を照射した場合の親水化速度が、照射光の波長が370nm以上の領域では、2(1/deg/min/105)未満であり、かつ照射光の波長が300〜360nmの領域の少なくとも一部では、2(1/deg/min/105)以上であることを特徴とする光触媒膜である。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
光半導体結晶化物を少なくとも一方の主表面に含有し、光照射によって前記主表面が親水化する光触媒膜であって、暗所保持後に半値幅15nm以下の光を照射した場合の親水化速度が、照射光の波長が370nm以上の領域では、2(1/deg/min/105)未満であり、かつ照射光の波長が300〜360nmの領域の少なくとも一部では、2(1/deg/min/105)以上であることを特徴とする光触媒膜。
IPC (7件):
B01J 35/02 ,  B01J 37/08 ,  C09D 1/00 ,  C09D 5/00 ,  C09D 7/12 ,  C09D 185/00 ,  C09D 201/00
FI (7件):
B01J35/02 J ,  B01J37/08 ,  C09D1/00 ,  C09D5/00 Z ,  C09D7/12 ,  C09D185/00 ,  C09D201/00
Fターム (43件):
4G169AA02 ,  4G169AA08 ,  4G169BA01A ,  4G169BA01B ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA14B ,  4G169BA22A ,  4G169BA22B ,  4G169BA48A ,  4G169BE06C ,  4G169EA07 ,  4G169EA30 ,  4G169EB15X ,  4G169EB15Y ,  4G169EB18X ,  4G169EB18Y ,  4G169ED02 ,  4G169FA01 ,  4G169FB23 ,  4G169FC05 ,  4G169FC07 ,  4G169FC08 ,  4G169HA02 ,  4G169HA03 ,  4G169HB01 ,  4G169HD05 ,  4G169HD07 ,  4G169HD10 ,  4G169HE06 ,  4G169HE08 ,  4G169HF03 ,  4G169HF09 ,  4J038CG141 ,  4J038CH011 ,  4J038CH111 ,  4J038GA16 ,  4J038HA211 ,  4J038HA442 ,  4J038JC40 ,  4J038NA06
引用特許:
出願人引用 (5件)
  • 国際特許公開96/29375号パンフレット
  • 薄膜構造体及びその製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-154889   出願人:株式会社豊田中央研究所
  • 透明薄膜とその製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-289528   出願人:科学技術振興事業団
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審査官引用 (6件)
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