特許
J-GLOBAL ID:200903022645822446

放射光用光学素子とその加工方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 堀田 実 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-125366
公開番号(公開出願番号):特開平7-333411
出願日: 1994年06月07日
公開日(公表日): 1995年12月22日
要約:
【要約】【目的】 強い放射光に耐える表面硬度を有し、表面の反射率が高く、放射光を効率的に利用することができ、かつ形状精度が高く放射光を正確に反射又は収束させることができる放射光用光学素子と、その光学素子を短時間に高精度に製作できる加工方法及び装置を提供する。【構成】 砥石表面の砥粒の金属結合材を電解ドレッシングにより除去しながら研削する研削工程10と、球状の弾性工具を被加工物に押し付けながら研磨する研磨工程12とからなる。研削工程は、加工後の形状を計測する形状計測工程S2と、計測データから加工用データを補正するデータ補正工程S3と、補正されたデータにより被加工物を再加工する再加工工程S1とを有する。
請求項(抜粋):
表面にCVDにより形成されたSiC膜を有し、表面粗さが4Å以下でありかつ形状精度が0.15μm以下である、ことを特徴とする放射光用光学素子。
IPC (6件):
G02B 5/08 ,  B23H 5/00 ,  B23H 5/06 ,  B24B 13/00 ,  B24B 53/00 ,  G02B 1/10
引用特許:
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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