特許
J-GLOBAL ID:200903022659436930
微小領域熱物性解析方法及び装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小島 俊郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-323911
公開番号(公開出願番号):特開2005-091119
出願日: 2003年09月17日
公開日(公表日): 2005年04月07日
要約:
【課題】 サブマイクロメートル程度の空間分解能で、熱拡散率の測定することができる微小領域熱物性解析方法及び装置を実現する【解決手段】 加熱ビーム81は、金属薄膜71の加熱面を照射して加熱する。測温ビーム82は、光ファイバ・プローブ45に入射して微小開口452と金属薄膜71との間に近接場光84を発生させる。金属薄膜71と近接場光84とが相互作用し、測温面の反射率に応じた反射光85を生じさせる。処理部5は、加熱ビーム82の遅延時間を変化させて、反射光85の強度を繰り返し算出し、反射光85の強度の時間変化を求める。処理部5は、サーモリフレクタンス法により反射光85の強度から金属薄膜71の表面温度を算出し、別途、入力部6から金属薄膜71の膜厚の入力を受け、金属薄膜の熱拡散率を算出する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
試料台に保持された薄膜の一方の面に、加熱用のレーザ光を照射し、
前記薄膜の加熱用のレーザ光を照射した面と反対の面に、測温用の近接場光を照射し、
前記薄膜に照射した近接場光の反射光強度の時間変化を測定し、
測定した反射光強度の時間変化からサーモリフレクタンス法により前記薄膜の加熱用のレーザ光を照射した面と反対の面における表面温度の時間変化を検出し、
検出された前記表面温度の時間変化と前記薄膜の膜厚とから前記薄膜の熱拡散率を算出することを特徴とする微小領域熱物性解析方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (11件):
2G040AB09
, 2G040BA18
, 2G040BA26
, 2G040CA02
, 2G040CA23
, 2G040DA13
, 2G040EA06
, 2G040EB02
, 2G040EC02
, 2G040EC04
, 2G040ZA05
引用特許:
出願人引用 (4件)
-
特許第3252155号公報
-
特許第3294206号公報
-
半導体評価装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-048620
出願人:株式会社リコー
-
半導体評価装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-355387
出願人:株式会社リコー
全件表示
審査官引用 (4件)
-
特許第3252155号
-
熱分光測定装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-298707
出願人:富士写真フイルム株式会社
-
半導体評価装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-355387
出願人:株式会社リコー
引用文献:
審査官引用 (1件)
-
Nanometer-Scale Thermal Processing for Advanced Manufacturing (YIP'96)
前のページに戻る