特許
J-GLOBAL ID:200903022673856186
試料内で励起および/または後方散乱を経た光ビームの光学的捕捉のための配置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
松田 省躬
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-342633
公開番号(公開出願番号):特開2003-248175
出願日: 2002年11月26日
公開日(公表日): 2003年09月05日
要約:
【要約】【課題】試料内で励起および/または後方散乱を経た光ビームの光学的捕捉のための配置【解決手段】顕微鏡試料内で励起および/または後方散乱を経た光ビームの光学的捕捉のための配置であって、その場合試料照明が試料平面と捕捉平面との間の光路の瞳孔平面に、および/または瞳孔平面の近傍に集束し、この平面内には照明光を検出光から空間的に分離するための手段が配備されていて、特に試料からの蛍光および/またはルミネセンス光および/または燐光および/または広く散乱した照明光が検出されるようになっており、また空間的に分離するための手段が、好ましくは、少なくとも1つの反射性第1区分と少なくとも1つの透過性第2区分とから成っていて、反射性区分が照明光の結合に、および透過性区分が検出器方向への検出光の通過に、または透過性区分が照明光の結合に、および反射性区分が検出光の分離に用いられる。
請求項(抜粋):
試料内で励起および/または後方散乱を経た光ビームの光学的捕捉のための配置であって、試料照明が、試料平面と捕捉平面との間の光路の瞳孔平面および/または瞳孔平面の近傍に集束し、この平面内に、照明光を検出光から空間的に分離するための手段が配備されている配置。
IPC (5件):
G02B 21/16
, G01N 21/64
, G02B 21/36
, G02B 26/10 104
, G02B 27/28
FI (5件):
G02B 21/16
, G01N 21/64 E
, G02B 21/36
, G02B 26/10 104 Z
, G02B 27/28 Z
Fターム (31件):
2G043AA03
, 2G043BA16
, 2G043EA01
, 2G043FA01
, 2G043FA02
, 2G043FA06
, 2G043GA04
, 2G043GB01
, 2G043HA01
, 2G043HA02
, 2G043HA07
, 2G043HA09
, 2G043JA02
, 2G043KA09
, 2G043LA03
, 2H045AB01
, 2H045DA31
, 2H052AA07
, 2H052AA08
, 2H052AA09
, 2H052AC14
, 2H052AC15
, 2H052AC34
, 2H052AD35
, 2H052AF02
, 2H052AF06
, 2H052AF13
, 2H052AF14
, 2H099AA00
, 2H099BA17
, 2H099CA01
引用特許:
審査官引用 (18件)
-
蛍光層の感知を主目的とする走査装置
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-620408
出願人:カールツァイスイエナゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
-
光学スキャナ用の画像形成システム
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-601424
出願人:ジーエスアイ・ルモニクス,インコーポレイテッド
-
眼科装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-193241
出願人:キヤノン株式会社
-
顕微鏡用照明装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-110253
出願人:株式会社ニコン
-
走査型光学顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-183533
出願人:オリンパス光学工業株式会社
-
特開昭53-135653
-
特開昭53-135653
-
特開昭53-135653
-
特開昭60-063514
-
特開昭60-063514
-
特開昭60-063514
-
検査対象物の表面情報検知装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-039642
出願人:富士通株式会社
-
共焦点装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-125481
出願人:横河電機株式会社
-
共焦点装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-009991
出願人:横河電機株式会社
-
検出光学系並びに立体形状検出方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-134668
出願人:株式会社日立製作所
-
コンフォーカル顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-254559
出願人:レーザーテック株式会社
-
顕微式フーリエ変換赤外分光測定装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-201891
出願人:株式会社堀場製作所
-
顕微鏡組立物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-007783
出願人:ライカマイクロシステムズハイデルベルクゲーエムベーハー
全件表示
前のページに戻る