基板処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-024700
公開番号（公開出願番号）：特開2000-223546
出願日： 1999年02月02日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
要約：

【要約】【課題】装置全体としての処理時間を短縮することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】複数の処理ユニットを備える基板処理装置において、シャトル20が処理ユニット間の基板搬送を行う。矩形状の基板Wはシャトル20の左右ハンド23a,23bおよび前後ハンド26a,26bによってその4辺が保持される。前後ハンドスライド機構45は、基板Wを水平姿勢で保持する基板保持姿勢と保持した基板Wを開放できる基板開放姿勢とに前後ハンド26a,26bの姿勢を変更できる。同様に、左右ハンド回動機構36も左右ハンド23a,23bの姿勢を基板保持姿勢と基板開放姿勢とに変更できる。処理ユニットとの基板受け渡しの際に、それぞれのハンドを基板開放姿勢とすれば、基板の昇降とハンドとが干渉することはなく、シャトル20の移動と基板昇降とを同時にできる。

請求項（抜粋）：

所定の方向に直列に配列され矩形状の基板の表面に所定の処理を施す複数の処理ユニットに順次基板を搬送して基板処理を行う基板処理装置であって、(a) 前記矩形状の基板の周縁部のうち相互に平行な2辺のそれぞれに対応する周縁部の裏面に当接して前記基板を略水平姿勢で保持する基板保持部を有し、前記複数の処理ユニット間で当該基板を搬送する搬送手段と、(b) 前記複数の処理ユニットのそれぞれに設けられ、前記基板を略水平に保持した状態で前記基板に所定の処理を施す基板処理位置と、前記搬送手段に対して前記基板を受け渡す基板受け渡し位置との間で基板を昇降させる昇降手段と、を備え、前記搬送手段は、基板を略水平姿勢で保持する基板保持姿勢と保持した基板を開放できる基板開放姿勢とに前記基板保持部の姿勢を変更できる姿勢変更手段を備えることを特徴とする基板処理装置。

Fターム (12件)：

5F031CA05 , 5F031CA07 , 5F031GA06 , 5F031GA18 , 5F031LA07 , 5F031LA13 , 5F031MA23 , 5F031MA24 , 5F031MA26 , 5F031MA27 , 5F031PA13 , 5F031PA18

引用特許：

審査官引用 (3件)

基板搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-133759 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
工業用ロボットのワーク保持装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-349385 出願人：株式会社芝浦製作所
基板搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-135056 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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